Der Standardresist AR-P 3510 – 30 Jahre auf dem Weltmarkt

Das 30-jährige Firmenjubiläum im letzten Jahre, das gemeinsam mit dem Ministerpräsidenten Dietmar Woidke feierlich begangen wurde, war auch Anlass für uns, über die Wurzeln und die Geschichte der Allresist nachzudenken. Im Herbst 1992 gründeten Frau Brigitte Schirmer und Herr Matthias Schirmer die Allresist GmbH. Sie mieteten das Technikum der Fotochemischen Werke in Berlin-Köpenick und übernahmen das gesamte Know-How der Resistherstellung, das sie zum großen Teil mitentwickelt hatten.

Bild: Das Technikum in Berlin-Köpenick                                     

Von Anfang an war der Gedanke der Nachhaltigkeit fest in der Firmenphilosophie der Allresist verankert. Eine der ersten Weiterentwicklung des jungen Unternehmens war der Austausch der teratogenen Lösemittel des Positiv-Photoresists AR-P 351 durch Safer Solvents. So entstand der Standardresist AR-P 3510, bei dem die exzellenten lithographischen Eigenschaften beibehalten wurden, der Lack aber für die Anwender nun bedeutend ungefährlicher war. Wir informierten unsere Kunden über den Fortschritt, und die Umstellung auf das neue Produkt erfolgte in den meisten Fällen außerordentlich zügig. In den letzten 30 Jahren wurden über 32 Tonnen AR-P 3510-Resist verkauft.

In Anerkennung unserer Geschichte hat uns dieser Erfolg bewogen, AR-P 3510 zum Resist des Monates zu wählen.