Erste Versuche mit unserm SX AR-P 5000/82.7 mittels Elektronenstrahllithographie ergaben den Nachweis, dass sich dieser Resist gut strukturieren lässt. Damit ist die Möglichkeit gegeben, thermisch bis 350 °C beständige Nanostrukturen zu erzeugen. Die Verarbeitung unseres Polyimidresists ist einfach. Er muss nach dem Beschichten nicht getempert werden (Curing-Prozess) und kann wässrig-alkalisch entwickelt werden.
E-Beam Resist Positiv