Der Einsatz wässrig-alkalischer Entwickler auf alkaliempfindlichen Substraten, wie z.B. Aluminium ist problematisch, da während des Entwicklungsschritts auch das Substrat angegriffen wird. Sollen Photoresists auf alkaliempfindlichen Substraten strukturiert werden, empfiehlt sich daher der Einsatz des Entwicklers AR 300-35. Dieser Entwickler ist zwar ebenfalls wässrig-alkalisch greift aber Aluminiumoberflächen aufgrund seiner besonderen Rezeptur praktisch nicht an, da die Oberfläche passiviert wird. Der unverdünnte Entwickler kann auch als Remover auf solchen empfindlichen Substraten eingesetzt werden.
Prozesschemikalien Entwickler