Entwicklerkaskade
Für eine optimale Ausnutzung der Entwickler und für die höchste Sauberkeit bei der Tauchentwicklung wird die Nutzung einer Kaskade empfohlen. Die Entwicklung erfolgt oft in nur einem Behälter. Dort werden die belichteten Resistflächen vollständig gelöst, verbleiben im Entwickler und verbrauchen ihn auch somit. Spült man die entwickelten Wafer, die sich meist in einem Carrier befinden, mit DI-Wasser ab, kann es sein, dass die Feststoffe der verschmutzten Entwicklerreste ausfallen und die Waferoberfläche leicht verschmutzen. Diesen Effekt kann man durch starkes Spülen mit Wasser verhindern, wenn man jedoch ganz sicher seien will, sollte man die Kaskade verwenden.
Dazu werden zwei, vielleicht auch drei Entwicklergefäße in einer Reihe aufgestellt. Im ersten werden die Wafer vollständig entwickelt. Nach Abschluss der Entwicklung werden die Wafer kurz in den frischen Entwickler des zweiten Bades getaucht (5 Sekunden). Der Vorgang kann mit einem dritten Bad vervollständigt werden. Dann erfolgt das Spülen im DI-Wasser. Bei diesem Prozess ist eine Verschmutzung ausgeschlossen.
Ist der Entwickler im ersten Bad verbraucht (siehe Entwickleralterung), rückt der zweite Behälter an die Stelle des Ersten, ggf. der Dritte an die Position des Zweiten. Durch dieses Verfahren hat man eine optimale Nutzung des Entwicklers und die höchste Sauberkeit.