Hochempfindlicher E-Beamresist AR-P 617 (PMMA-Copolymer)
Das Copolymer aus Methylmethacrylat und Methacrylsäure ist im Gegensatz zu den reinen PMMA´s in der Lage, bei einer thermischen Belastung einen 6-Ring zu bilden. Dazu müssen 2 Methacrylsäure-Gruppen nebeneinander in der Polymerkette angeordnet sein (siehe Strukturformel). Bei einem Mischungsverhältnis von 2 : 1 (PMMA : Methacrylsäure) kommt das statistisch gesehen ausreichend oft vor. Die Reaktion ist bei einer Temperatur von 190 – 210 °C möglich, weil das entstehende Wasser eine sehr gute Abgangsgruppe ist. Der gebildete 6-Ring ist bei einer Bestrahlung mittels Elektronen einfacher zu brechen als die aliphatische Restkette. Daraus resultiert die höhere Empfindlichkeit des Copolymers. Die eingestellte Empfindlichkeit bleibt dann unverändert erhalten, eine Rückreaktion unter Ringöffnung ist unmöglich.
Dehydrierung des PMMA-Copolymers
E-Beam Resist Positiv