Allresist nahm am Kongress als Silbersponsor mit eigenem großen Stand teil und konnte viele beachtliche Neuigkeiten präsentieren. Ein besonderes Highlight war unser Wissenschafts-Poster zu unserer Neuentwicklung AR-N 4600 alias Atlas 46 und der Vortrag von Dr. Gerngroß über diesen interessanten Negativ Photoresist. Von ihm gibt es gleich drei sofort verfügbare Varianten:
- 46S: adäquat zum SU-8
- 46R: wieder leicht entfernbar
- 4600-10 empfindlich bei g-line
Abbildung 1: Wissenschaftliches Poster der Neuentwicklung Atlas 46
Ein besonderer Blickfang waren die fluoreszierenden Strukturen unserer neuen Farblacke für die optische und Sensor-Industrie. Einerseits wurden spezielle Negativ-Photoresists mit unterschiedlichen Farbstoffen eingefärbt. Andererseits wurden PMMA- und CSAR 62 E-Beamresists mit fluoreszierenden Komponenten versehen, die bei einer UV-Anregung hell leuchten.
Abbildung 2: Poster der neuen Farblacke
Weitere Aufmerksamkeit erregende Neuigkeiten, die auf Partner-Postern präsentiert wurden, sind:
Abbildung 3: Poster der Uni Wuppertal – Atlas 46 als Nanoimprint-Lack
Abbildung 4: Poster vom Karlsruher Institute of Technology – Dicker CSAR 62
Abbildung 5: Poster von der Martin-Luther-Universität Halle – Selektives Dreilagensystem zur Herstellung von T-Gates
Wir bedanken uns für Ihr großes Interesse, Ihre Anregungen und Ideen für weitere Projekte. Ganz besonders freuen wir uns über anerkennende Bemerkungen, wie die von Herrn Rommel der Technischen Uni Chalmers in Göteborg, der uns mit „Toll, Sie haben ja schon wieder neue Lacke im Programm“, begrüßte.
Nächstes Jahr freuen wir uns auf Ihren Besuch in Kopenhagen, dann ist die MNE 2018 dort zu Gast.
