Resist des Monats Januar 2021: Optimierter Prozess für den Negativ-Photoresist Atlas 46
Januar 2021
Die Entwicklungsarbeiten an unserem neuen Photoresist Atlas 46 wurden fortgeführt. Anhand eigener Ergebnisse oder durch Hinweise und Wünsche der Anwender wurde die Rezeptur und die Eigenschaften verbessert. Dabei stellte sich heraus, dass wir nicht die beiden Varianten Atlas 46 S und Atlas 46 R anbieten müssen. Die R-Serie ist nach der Strukturierung leicht zu entfernen die S-Serie ist sehr stabil. Die Untersuchungen der Prozessparameter zeigte nun, dass mit einem Resist sowohl die ausgeprägte Widerstandsfähigkeit als auch das relativ leichte Removing zu erreichen ist. Gemeinsam mit dem IFW Dresden steht eine große Evaluierung des Atlas 46 kurz vor dem Abschluß. Wir werden die zusammengefassten Ergebnis vorstellen. Ein Beispiel vorab ist die Zweilagen Strukturierung des Atlas 46:
Abbildung: Atlas 46 Zweilagensystem mit 10 µm line & space
Deshalb bieten wir in Zukunft den Atlas 46 nur noch als universellen AR-N 4600 an. Das war für uns Anlass, ihn zum Resist des Monat Januar zu machen.