Sehr geehrte Kunden,
heute möchten wir Sie über die Weiterentwicklung unserer Hightech-Resists informieren.
Medusa 82/ 82 PAG und neuer Medusa 84 SiH ab 2025
Auf vielfachen Kundenwunsch entwickelte Allresist 2021 mit Medusa 82 und 82 PAG eine Alternative zum HSQ-Resist mit einer deutlich besseren Lager- und Prozessstabilität. Beide Resists sind zudem hochauflösend (11 nm) sowie ätz- und prozessstabil.
In einem weiteren FuE-Schritt arbeitete Allresist an der Verbesserung der Auflösung und Plasmaätzresistenz. Dies gelang durch Optimierung der Syntheseführung des HSQ-Polymers, dabei entspricht die neue chemische Zusammensetzung exakt dem HSQ (Hydroxysilsesquioxan). Zusätzlich wird die Haltbarkeit des Resists Medusa 84 SiH durch Stabilisatoren verlängert. Unser neuer Medusa 84 SiH erreicht höchste Auflösungen < 10 nm mit einer höheren Plasmaätzfestigkeit und verbesserten Haftfestigkeit gegenüber Medusa 82/ 82 PAG. Dabei beträgt die Prozess- und Lagerstabilität für niedrige Feststoffgehalte wie SX AR-N 8400.04 (50 nm @ 4000 rpm) und SX AR-N 8400.08 (100 nm @ 4000 rpm) 6 Monate bei Kühlschranklagerung (10 °C). Tiefkühllagerung verlängert die Haltbarkeit.
→ Deshalb empfehlen wir allen Kunden, die Medusa 82/ 82 PAG verwenden, auf unseren neuen Medusa 84 SiH zu wechseln. In der aktuellen Preisliste ist Medusa 82 daher als Auslaufprodukt auf Anfrage gesetzt. Wenden Sie sich bei Fragen bitte an unsere Kundenberater.
Allresist nimmt Kundenwünsche auf, ob künftig auch höhere Feststoffgehalte von Medusa 84 SiH (z.B. 400 nm/ 4000 rpm) interessant sind. Da mit höheren Feststoffgehalten die Lagerstabilität sinkt, sind Transport und Lagerung unter aufwendigen Tiefkühlbedingungen erforderlich (Allresist arbeitet derzeit an weiteren Optimierungen). Bei Interesse sprechen Sie bitte mit unseren Kundenberatern.
Electra AR-PC 5090 Serie und neuer AR-PC 5094 ab 2025
Allresist bietet seit 2015 die Electra Schutzlacke AR-PC 5090 und 5091 an, mit denen Aufladungen bei der E-Beam-Lithographie wirksam abgeleitet werden. Der 2022 entwickelte AR-PC 5092 übertrifft hinsichtlich Beschichtungsqualität und Lagerstabilität seine Vorgänger AR-PC 5090 und 5091. Da noch viele Kunden an den AR-PC 5090 gewöhnt sind, haben wir uns für einen allmählichen Wechsel entschieden und ihn 2025 auf Anfrage gesetzt.
Im Sinne stetiger Produktverbesserung hat Allresist 2024 eine universelle Electra-Variante, den neuen AR-PC 5094 (SX AR-PC 5092.02/1) entwickelt. Mit ihm gelingt die Beschichtung aller E-Beamresists 1) in allerhöchster Qualität. Dazu gehören auch der neu entwickelte Medusa 84 SIH (HSQ) und CSAR 62.
1) außer CAR. Für CAR-Resists entwickelt Allresist derzeit eine weitere Rezeptur.
→ Daher empfehlen wir allen Kunden des AR-PC 5090, 5091 und 5092 auf unseren preisgleichen neuen AR-PC 5094 zu wechseln. Fragen beantworten Ihnen gern unsere Kundenberater.
Phoenix 81 – einsatzbereiter flüssiger Resist ab 2026 möglich
Phoenix 81 ist der thermostrukturierbare Standardresist für den NanoFrazor. Allresist vertreibt das Polymer aufgrund seiner Thermolabilität seit 2017 als Feststoff.
Ab jetzt nimmt Allresist Kundenwünsche auf, ob künftig auch ein einsatzbereiter, infolge Syntheseoptimierung lagerstabiler Flüssigresist, interessant ist und falls ja, welche Schichtdicken (z.B. 80 nm @ 4000 rpm) wichtig sind. Bei Interesse sprechen Sie bitte unsere Kundenberater an.
Herzliche Grüße vom Kundenberater-Team der Allresist