Medusa 82 mit Photoacidgenerator (PAG)

Ein Nachteil von HSQ und Medusa 82 ist die sehr geringe Empfindlichkeit. Durch Zusatz von Photoacidgeneratoren kann die Empfindlichkeit deutlich gesteigert werden.

Empfindlichkeitssteigerung um den Faktor 20 durch den Zusatz von PAG (30 kV)

  • Resist: SX AR-N 8200.06/1 – 100 nm
  • Coating: 60 s 4000 rpm
  • Soft-bake: 15 min @ 120°C
  • Exposure: 30 kV
  • Development: 90 s AR 300-44; 23°C
  • Stopping: 30 s DI-water

 

Empfindlichkeitssteigerung um den Faktor 5 durch den Zusatz von PAG (100 kV)

  • Resist: SX AR-N 8200.06/1 – 100 nm
  • Coating: 60 s 4000 rpm
  • Soft-bake: 10 min @ 130°C
  • Exposure: 100 kV
  • Development: 90 s AR 300-44; 23°C
  • Stopping: 30 s DI-water

Im Fall der E-Beam-Belichtung mit 30 kV konnte die Empfindlichkeit um den Faktor 20 gesteigert werden, bei 100 kV etwa um den Faktor 5. Durch Variation des PAG-Gehaltes im Resist kann die Empfindlichkeit eingestellt werden.

Empfindlichkeitssteigerung um den Faktor 5 durch den Zusatz von PAG (100 kV)

Interessanterweise kann auch die Empfindlichkeit vom Standardresist Medusa 82 (ohne PAG-Zusatz) durch einen PEB (z.B. 5′ bei 180°C) gesteigert werden (siehe Diagramm, schwarze Linie). Dabei zeigen sich nur geringe Unterschiede zu den Resistmustern mit PAG-Zusatz. (siehe Medusa PEB-Einfluss)

|

« Zurück zur Übersicht