MNE-Erfolg mit Medusa 82 in Kopenhagen

Allresist landet mit Medusa 82 großen Erfolg auf dem Kongress MNE 2018 in Kopenhagen

Wieder nahm Allresist an der MNE mit einem großen, attraktiven Stand und neuen Innovationen teil.

Wie bereits in den Vorjahren war das Interesse der Kongressteilnehmer an unseren vielfältigen Neuentwicklungen groß. Der absolute Höhepunkt war jedoch unsere Vorstellung von Medusa 82, einer exzellenten Alternative zum HSQ-Resists. Herr Dr. Tobias Mai präsentierte in seinem Vortrag die bisherigen Ergebnisse, die deutlich bessere Eigenschaften wie hohe Prozessstabilität, extreme Empfindlichkeitssteigerung und Anwendungen in der E-Beam-, EUV- und Photolithographie anschaulich zeigten.

Anwender aus der ganzen Welt erkundigten sich anschließend nach der Verfügbarkeit von Medusa und waren begeistert, dass erste Proben sofort verfügbar sind und die guten Eigenschaften des HSQ (hohe Auflösung und Ätzstabilität) im neuen Produkt Medusa 82 übertroffen werden.

Auch die anderen innovativen Resists wie CSAR 62, Atlas 46, Electra 92 und die fluoreszierenden Lacke wurden sehr interessiert zur Kenntnis genommen.

Der Kongress wurde auch für die Vertiefung der Beziehungen mit unseren ebenfalls ausstellenden Partnern wie Swisslitho, Raith, EVG, Vistec und Heidelberg Instruments genutzt.

Wir bedanken uns bei allen Besuchern für ihr Interesse sowie Ihre Anregungen und Ideen für weitere Projekte. Im nächsten Jahr werden wir auf der MNE 2019 auf Rhodos, Griechenland, unsere Weiterentwicklungen vorstellen und freuen uns auf Ihren Besuch.

|

« Zurück zur Übersicht