X AR 600-50/2 ist ein neuer, sehr empfindlicher und selektiver Entwickler für AR-P 617. Der Dunkelabtrag ist auch bei längeren Entwicklungszeiten sehr gering. Schichten von PMMA oder CSAR 62 werden nicht angegriffen was insbesondere für Mehrlagenprozesse von Bedeutung ist. Die Empfindlichkeit kann gut über die Dauer der Entwicklung gesteuert werden.
AR-P 617, Schichtdicke: ~1µm, SB 10 Minuten bei 200°C, 50kV, Dosisstaffel, Abhängigkeit der Empfindlichkeit von der Entwicklungsdauer mit Entwickler X AR 600-50/2 bei Raumtemperatur, Stopper: IPA.
Bei einer Entwicklungszeit von 60s beträgt die Dose to clear etwa 70 µC/cm2, nach 3 minütiger Entwicklung noch etwa 40 µC/cm2, nach 6 Minuten noch 25 µC/cm2 und nach 10 Minuten sogar nur etwa 20 µC/cm2! Der Dunkelabtrag bleibt dabei mit < 5% sehr moderat. Der Entwickler X AR 600-50/2 zeigt eine ausgeprägte Temperaturabhängigkeit.
AR-P 617, Schichtdicke: ~1µm, SB 10 Minuten bei 200°C, 50kV, Dosisstaffel, Abhängigkeit der Empfindlichkeit von der Entwicklertemperatur, Entwicklungsdauer: 3 Minuten, Stopper: IPA.
Die Empfindlichkeit steigt mit der Temperatur deutlich an, die Dose to clear beträgt bei 19°C etwa 48 µC/cm2, bei 23,5°C dagegen nur noch etwa 30 µC/cm2. Die Erhöhung der Entwicklertemperatur führt zu einem geringen Dunkelabtrag von etwa 5%.
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