Nach dem HARMNST-Kongress 2013 werden die Vorträge und Poster im Springer-Verlag in einem im Herbst erscheinenden Buch zusammengefasst. Unser um weitere Ergebnisse ergänztes Abstract “Chemical Semi Amplified Positive E-Beam Resist (CSAR 62) for Highest Resolution” wird als Full-Paper-Version im Springer Journal Microsystems Technologies enthalten sein. In dem Artikel sind unsere neuen Ergebnisse zum CSAR 62 publiziert, so z.B. die Erzeugung ausgeprägter unterschnittener Strukturen innerhalb eines Zweilagensystems mit PMMA.
Wie Sie bereits wissen, begann am 2. Mai der Verkauf von zunächst kleinen Musterproben. Wir haben uns sehr gefreut, dass bereits 18 Kunden CSAR 62-Proben mit Entwickler, Stopper und Remover kauften.
In dieser Woche haben wir unsere neue Produktionslinie eröffnet und können dadurch jetzt größere Chargen herstellen. Ab 3. Juni stehen regulär größere Mengen, d.h. ¼ l, 1 l, 2,5 l … unseres CSAR 62 zur Verfügung. Damit haben wir es mit unseren engagierten Mitarbeitern in nur 5 Monaten geschafft, ein von unseren Kunden gewünschtes Produkt marktfähig zu entwickeln.
Großer Dank gebührt dabei auch dem IDM Teltow, insbesondere Herrn Dr. Thomas Köpnick und der Martin-Luther-Universität Halle, vor allem Herrn Dr. Bastian Büttner. Beide haben uns mit außergewöhnlichem Engagement und Geschick unterstützt.
Wie gewohnt schnell und zuverlässig erhalten Sie 2-3 Tage nach Ihrer Bestellung auch unseren neuen CSAR 62 nebst Entwickler, Stopper, Remover.
