Der Elektronenstrahlresist X AR-N 7700.38 wurde an der Humboldt-Universität-Berlin, Sektion Physik, getestet. Es wurden 5 µm dicke Resistschichten mit einer Beschleunigungsspannung von 20 kV bestrahlt und entwickelt. Bei einer Dosis von 30 µC/cm² wurden 500-nm-Stege erhalten. Mit steigender Dosis wird der Proximity-Effekt deutlich sichtbar. Mit diesem Resistsystem sind Schichten bis 100 µm und höher möglich. Damit bietet sich auch ein Einsatz bei der Synchron-Bestrahlung an.
