In diesem Beitrag wird der neu entwickelte Negativresist CAR 44 für die Mikrosystemtechnik vorgestellt. Der CAR 44 verfügt über ähnliche Eigenschaften wie der SU-8, besitzt jedoch darüber hinaus bedeutende Vorteile. Hervorzuheben ist vor allem die leichte Entfernbarkeit der vernetzten Strukturen. Damit eröffnen sich völlig neue Anwendungsmöglichkeiten in der Mikrosystemtechnik [1].
[1] M. Schirmer et al., Microsyst. Technol. (2007) 13, 335-338, “ A new removable resist for high aspect ratio applications”