Aus 175 Bewerbungen wurde die Allresist neben 6 anderen Unternehmen für den Innovationspreis Berlin-Brandenburg nominiert. Die Allresist GmbH wurde für ihr erfolgreiches Forschungsprojekt „CAR 44 – Photoresistentwicklung für die Mikrosystemtechnik“ für den Innovationspreis vorgeschlagen. Die Entwicklung im menschlichen Körper implantierter medizinischer Geräte, stecknadelkopfgroßer Pumpen und fliegender Minihubschrauber rückt die Mikrosystemtechnik immer stärker in unser Bewusstsein.
Für die Herstellung dieser Bauteile werden Photoresists benötigt. Die Entwicklung des CAR 44 wurde erforderlich, weil sich die mit dem bisher auf dem Markt befindlichen Resist SU-8 erzeugten Strukturen nicht entfernen ließen, so dass Lackanwendungen in der Mikrosystemtechnik nur eingeschränkt möglich waren. Mit dem neuen lichtempfindlichen Photolack CAR 44 gelingt z.B. die außerordentlich einfache, kostengünstige und umweltfreundliche Erzeugung miniaturisierter Turbinenräder zur Herstellung stecknadelkopfgroßer Minipumpen. CAR 44 eröffnet damit völlig neue Wege der Photolithographieanwendung in der Mikrosystemtechnik. Dies bestätigend wurde von der Fachwelt auf dem HARMST-Kongress in Korea im Juni 2005 die leichte Entfernbarkeit bei exzellenter Abbildungsgüte als Vorteil des CAR 44 gewürdigt. Diese Abbildung zeigt kleine Turbinenräder (Ø 0,1 mm). Zu deren Herstellung werden Siliziumwafer zunächst mit dem Resist CAR 44 beschichtet, dieser getrocknet und bildmäßig belichtet. An den belichteten Stellen vernetzt der Resist und wird im Entwickler unlöslich, während unbelichtete Teile herausgelöst werden, so dass der „Negativabdruck“ der abgebildeten Turbinenräder verbleibt, der dann mittels Galvanik aufmetallisiert wird. Zur Nutzung der abgeschiedenen Turbinenräder muss der verbliebene Resist unbedingt entfernt werden . Dies gelang erstmalig mit dem CAR 44 (Bild: Bessy GmbH, s. unten). Wer ist Allresist? Die Allresist GmbH entwickelt, produziert und vertreibt ihre Produkte selbst. Wir bieten eine breite Palette an Resists und Prozesschemikalien für alle Standardprozesse der Photo- & E-Beam-Lithographie zur Herstellung elektron. Bauteile, Sensoren und Mikrochips an. Die Entwicklung innovativer Produkte für neue Applikationen sowie prozessangepasster Sonderresists für anspruchsvolle Technologien in Kooperation mit dem Anwender sind unsere besonderen Spezialitäten.
Seit nunmehr 13 Jahren mit 10 Mitarbeitern auf dem Markt beruht der Erfolg der Allresist auch auf dem Know how aus 30jähriger DDR-Forschung. Mittlerweile produzieren wir in Strausberg im eigenen modernen Firmengebäude und sind qualitätszertifiziert nach DIN EN ISO 9001:2000. Weltweit beliefern wir Produktionsfirmen sowie Universitäten und Forschungseinrichtungen. Unsere Kunden schätzen: 1. mit genau angepassten Produkten kostengünstig und kurzfristig beliefert sowie fachlich begleitet zu werden und 2. kleine Mengen, Testmuster und innovative Neuentwicklungen zu erhalten, aber auch 3. gemeinsame Projekte mit uns und anderen Forschungseinrichtungen bzw. Unternehmen zu bearbeiten. Die Firmenstrategie der Allresist zielt auf die Konzentration Erfolg versprechender Aufgaben, wie z.B. die konsequente, weltweite Vermarktung des CAR 44. Nach Projektabschluss beginnen wir 2006 mit der Produktion des CAR 44 in Strausberg. Der Einsatz des neu entwickelten Resists wird wiederum zukunftsorientierte Anwendungen in modernen Technologiebereichen wie z.B. der Biotechnologie, Informations- und Kommunikations- sowie optischen Technologie initiieren.