Auf der MNE 2013 in London wurden die neuesten Ergebnisse des Positiv-E-Beamresists CSAR 62 vorgestellt. Dem Fachpublikum der User-Meetings von Raith bzw. Raith und Vistec wurden die noch höhere Auflösung von 7 nm bei einer Schichtdicke von 80 nm, die Langzeitstabilität und das Verhalten in einem Zweilagensystem präsentiert. In Diskussionen wurden neue Applikationsmöglichkeiten erörtert. So wurde als Anregung aufgenommen, dass der CSAR 62 auch für Schichtdicken bis 3 µm konzipiert wird. Alle Allresist-Kunden werden in den nächsten AR NEWS im Oktober über den aktuellen Stand der Ergebnisse informiert.
