Unser 15. Firmenjubiläum fiel mit dem Mikrosystemkongress in Dresden zusammen. Allresist war dort wieder mit einem Poster vertreten, auf dem die neuesten Ergebnisse des CAR 44 vorgestellt wurden. Gemeinsam mit der BESSY GmbH, unserem Kooperationpartner bei der Entwicklung des neuen Negativresists, wurde eine weitere Etappe der Zusammenarbeit in Angriff genommen (siehe Bild unten). Ziel des kleinen Projektes ist es, die Anwendungs- eigenschaften des CAR 44 für höhere Schichtdicken zu optimieren.
Nach der erfolgreichen Beendigung des Kongresses wurde dann auch das 15-jährige Bestehen der Allresist gebührend gefeiert.
