Resist-Wiki online und neue Elektronenstrahlresists

1. Resist-Wiki
Wir haben uns entschlossen, Teile unseres großen Resist-know-hows unseren Kunden auf unserer Website zur Verfügung zu stellen. Wir möchten damit erreichen, dass alle Anwender, auch Beginner und Studenten, ihre Fragen wie bei Wikipedia nachschlagen und Antworten, ergänzend zu unseren FAQs, finden können. Unser ab 16. Juli online verfügbares Resist-Wiki wird ständig wachsen, wir werden die aus unserer FuE-Tätigkeit resultierenden Erkenntnisse kontinuierlich für Sie ergänzen.

2. Neuer E-Beam-Resist SX AR-N 7520/4
Allresist sieht die E-Beam-Lithografie als Zukunftstechnologie an. Mit PMMA-Resists können derzeit Strukturen < 10 nm realisiert werden, jedoch sind die Prozessparameter, v.a. die Empfindlichkeit noch weit von einer wirtschaftlichen Anwendung entfernt. Jetzt ist es Allresist gelungen, die Tür aufzumachen zu einer effizienteren Technologie mit Hilfe eines hochauflösenden und gleichzeitig empfindlichen E-Beamresists: Der neue hochauflösende SX AR-N 7520/4 weist nur einen geringfügigen Proximityeffekt auf, da er nicht nach dem Prinzip der chemischen Verstärkung arbeitet. Im Vergleich zu herkömmlichen E-Beamresists, z.B. dem AR-N 7520 verfügt die Neuentwicklung über eine 7-fache höhere Empfindlichkeit. Die Dose to clear einer 100-nm-Schicht reduziert sich bei 30 KV auf 35 µC/cm². Dadurch können die Schreibzeiten erheblich verringert werden. Muster des neuen E-Beam Resists stehen ab August für alle Interessenten bereit.

3. Erweiterte Produktpalette an Anisol-PMMA-Resists
Die traditionellen Chlorbenzen-PMMA-E-Beam-Resists werden angesichts der erhöhten Umwelt- und Sicherheitsanforderungen zum Auslaufmodell. Allresist, selbst umweltzertifiziert, stellt sich als Umweltpartner des Landes Brandenburg dieser Herausforderung. Schrittweise ersetzen wir ab 2013 Chlorbenzen- durch Anisollacke entsprechend Kundenwunsch. Zu den bestehenden 6 bietet Allresist zusätzlich 18 neue Anisol-PMMA-Resists der Typen 50K, 200K, 600K und 950K an. Sie erfüllen genau wie die Chlorbenzen-PMMAs die hohen Anforderungen der Elektronenstrahl-Technologie. Die neuen Anisolresists sind für Sie ebenfalls ab August verfügbar. Produktinformationen dazu finden Sie hier.

AR_NanofairPoster1

|

« Zurück zur Übersicht