Weltweites Interesse für Medusa 84 – SX AR-N 8400 SiH

Nach der sehr erfolgreichen Teilnahme an der Konferenz EIPBN in San Diego (USA) Ende Mai 2024 war das Allresist-Forschungsteam in diesem Jahr auch bei der MNE in Montpellier (Frankreich) als Goldsponsor mit einem repräsentativen Messestand vertreten. Da Allresist die MNE seit 2010 regelmäßig mitgestaltet, sind wir mittlerweile fester Bestandteil der Community und informieren unsere Anwender regelmäßig über alle Neuerungen.

Abb. 1 FuE-Team von Allresist auf der MNE 2024 in Montpellier

Wie schon in den vergangenen Jahren stieß unser Portfolio auf großes Interesse, wobei das Hauptaugenmerk des Kongress dieses Mal auf unsem Resist Medusa 84 Lag. Während Allresist in San Diego erste Ergebnisse vorstellen konnte, wurden in Montpellier bereits viele interessante Applikationen mit ausgezeichneten Anwendungseigenschaften präsentiert.

Der HSQ, ein sehr häufig genutzter E-Beamresist, wird schon bald nicht mehr vom bisherigen Hersteller (DOW) angeboten. Neben seinen Vorzügen verfügt der HSQ allerdings auch über gravierende Nachteile: Die Langzeitstabilität ist unbefriedigend (< 3 Monate trotz Lagerung im Kühlschrank), Verarbeitungsprozesse müssen in kurzer Zeit absolviert sein, und der Resist muss aus dem Feststoff selbst angesetzt werden. Auch ein ähnlicher HSQ anderer Lieferanten verbessert die Eigenschaften nicht, da deren Basis das gleiche kommerzielle Polymer ist.

Im Interesse der Anwender bestand also dringender Handlungsbedarf für eine deutliche Verbesserung. Allresist stellt sich der technologischen Herausforderung ein ähnliches, jedoch verbessertes Polymer mit deutlich besseren Anwendungseigenschaften zu entwickeln. Durch eine gezielte Syntheseführung (die genau die stabile und empfindliche Molekülfraktion des Wasserstoffsilsesquioxans separiert) und durch aufwändige Reinigungsoperationen gelang es, nun einen deutlich stabileren Resist anzubieten. Selbst nach sechs Monaten Lagerung im Kühlschrank bei 10 C° bleiben die guten Anwendungseigenschaften unverändert. Auch kann die Prozessführung bei der Elektronenstrahllithografie für einige Tage unterbrochen werden, ohne dass sich die Parameter verändern. Erreicht wird diese Stabilität durch den Zusatz spezieller Stabilisatoren.

Allresist bietet künftig einsatzfähige Resists als Ersatz für HSQ in drei unterschiedlichen Schichtdicken an:

• 50 nm (4.000 rpm, 4 % Feststoff)
• 100 nm (4.000 rpm, 8 % Feststoff)
• 400 nm (4.000 rpm, 22 % Feststoff) → 1,0 µm /800 rpm

Inzwischen hat der Verkauf von Musterproben begonnen, und die reguläre Markteinführung ist für Januar 2025 geplant. Diese erfreuliche Entwicklung hat uns bewogen, Medusa 84 noch einmal zum Resist des Monates zu küren.