Photoresists Allgemein
Photoresists (Photolacke) werden insbesondere in der Mikroelektronik und Mikrosystemtechnik für die Produktion von µm- und sub-µm-Strukturen eingesetzt. Photoresists für die UV-Lithographie nutzen das Breitband-UV-Spektrum (300 – 450 nm) mit den darin enthaltenen g-line (436 nm), h-line (405) und i-line (365 nm) Wellenlängen. Die Deep-UV- (< 300 nm) und Extem-UV - Photoresists (< 200 nm) werden in diesem Wiki nur am Rande gestreift, da sie nicht in unser Produktportfolio passen.