Bei einigen Anwendungen kann das Substrat, auf dem der Negativlack eingesetzt werden soll, nicht erwärmt werden. Das trifft auf empfindliche Gläser und vor allem auf sehr große Substrate zu. Zum Beispiel soll die Strukturierung einer 4 Meter langen Kupferwalze für den Teppichdruck mit dem Negativlack durchgeführt werden. Die Muster werden dann mit einer Eisen(III)chlorid-Lösung in das Kupfer eingeätzt. Eine Temperung der Walze auf 95 °C ist aber nicht möglich. Jedoch zeigte sich, dass der AR-N 4400-10 nach der Belichtung auch über Nacht bei Raumtemperatur ausreichend vernetzt. Lediglich der Entwickler sollte etwas verdünnt werden. Bei etwas höheren Temperaturen, z.B. ein 40 °C warmes Wasserbad) lässt sich der Vernetzungsprozess auf wenige Stunden reduzieren.
Photoresist Negativ