Als Alternative zum Polyhydroxystyren-Negativresist wurde ein auf Copolymer Poly(hydroxystyren- co -MMA) basierender, empfindlicher CAR-Negativlack entwickelt, der ebenfalls wässrig alkalisch entwickelt werden kann. Der Lack ist bis etwa 300°C stabil und eignet sich daher gut für die Herstellung hochtemperaturbeständiger Strukturen. Der Resist verfügt genauso wie die Polyhydroxystyrene über sehr gute Isolatoreigenschaften und eine hohe thermischer Beständigkeit. Lackschichten aus PSOH co MMA zeichnet sich durch eine sehr geringere Feuchtigkeitsaufnahme aus der Luft aus.
Photoresist Negativ