Teflon oder ähnliche Produkte werden aufgrund ihrer extremen Oberflächeneigenschaften in Bereichen eingesetzt, wo eine Strukturierung des Teflons manchmal wünschenswert wäre. Die hydrophoben Oberflächeneigenschaften verhindern aber eine Beschichtung mit Resist. Der aufgeschleuderte Resist zieht sich wieder in die Mitte des Substrates zurück. Mit einem modifizierten Photoresist der Serie AR-P 3200 gelingt es, solche Teflonsubstrate zu beschichten. Die Eigenschaften des Resists wurden durch eine Variation der Oberflächenspannung und dem Zusatz von Haftvermittlern eingestellt.
Photoresist Positiv