E-Beam Resist AR-N 7700-Serie
(AR-N 7700.08, AR-N 7700.18)
Hochauflösender, chemisch verstärkter Resist für mix- & match, mit steiler Gradation
(AR-N 7700.08, AR-N 7700.18)
Hochauflösender, chemisch verstärkter Resist für mix- & match, mit steiler Gradation
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AR-N 7700.18: 112 x 164 nm Quader bei einer Schichtdicke von 400 nm
85 °C, 90 s, hot plate
ZBA 21, 30 kV
AR 300-46, 60 s, 22 °C
Text
AR-N 7700: 500 nm große Dots, geschrieben mit einer Dosis von 12 µC/cm² (30 kV)