E-Beam Resist AR-N 7720-Serie
(AR-N 7720.13, AR-N 7720.30)
Hochauflösender, chemisch verstärkter Resist für mix- & match, mit flacher Gradation
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Charakterisierung
- E-Beam, Tief-UV
- chemisch verstärkt (CAR)
- flache Gradation für dreidimensionale Resistprofile für diffraktive Optiken und Hologramme
- im UV-Bereich 248-265 nm und 290-330 nm negativ mit hoher Auflösung
- plasmaätzresistent, thermisch stabil bis 140 °C
- Novolak, Säuregenerator, Vernetzer
- Safer Solvent PGMEA
Interessante Beiträge im Resist-Wiki
Eigenschaften
AR-P 7720.13
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Schichtdicke/4.000 rpm: 0,25 µm
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Auflösung bester Wert: 80 nm
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Kontrast: < 1
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Flammpunkt: 42 °C
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Lagerung bis 6 Monate: 8-12 °C
AR-P 7720.30
Verfügbare Bestellgrößen
- 1 x 100 ml (Testmuster)
- 1 x 250 ml
- 2 x 250 ml
- 1 x 1.000 ml
- 6 x 1.000 ml
- 1 x 2.500 ml
Passende Prozesschemikalien
Strukturauflösung
AR-N 7720.13. Sinusförmige Strukturen
Prozessparameter
- Substrat4“ Si-Wafer
- Temperung
85 °C, 90 s, hot plate
- Belichtung
Vistec Lion, 12,5 kV
- Entwicklung
AR 300-47, 4 : 1, 60 s, 22 °C
Spinkurve
Text
Resiststrukturen
Diffraktive Optik mit dem AR-N 7720.30 in Silizium übertragen