E-Beam Resist AR-P 632-Serie
(AR-P 632.04, AR-P 632.08, AR-P 632.12)
Höchstauflösende Resists für die Nanometerlithographie, PMMA 50K
(AR-P 632.04, AR-P 632.08, AR-P 632.12)
Höchstauflösende Resists für die Nanometerlithographie, PMMA 50K
Stetige Zunahme des Unterschnittes
Definition: Die Empfindlichkeit für eine Linie wird in pC/cm angegeben, für eine Fläche ist die Einheit µC/cm²
Grabenbreite oben: 20 nm, Messwerte im Diagramm: Breite der Gräben unten