E-Beam Resist AR-P 649-Serie
(AR-P 649.04)
Höchstauflösende Resists für Nanometerlithographie, PMMA 200K
(AR-P 649.04)
Höchstauflösende Resists für Nanometerlithographie, PMMA 200K
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Stetige Zunahme des Unterschnittes
Definition: Die Empfindlichkeit für eine Linie wird in pC/cm angegeben, für eine Fläche ist die Einheit µC/cm²
Grabenbreite oben: 20 nm, Messwerte im Diagramm: Breite der Gräben unten