E-Beam Resist SX AR-N 8250 Serie (Medusa 82)
(SX AR-N 8250.03, SX AR-N 8250.06, SX AR-N 8250.18)
Experimentalmuster/Sonderanfertigung
Charakterisierung
- höchstauflösend E-Beam, auch EUV (13,5 nm) und DUV (250 nm) empfindlich
- vergleichbar mit HSQ, jedoch prozessstabiler, um den Faktor 20 empfindlicher
- einfacher entfernbar und deutlich haltbarer
- Silsesquioxane und Säuregenerator gelöst in 1-Methoxy-2-propanol
Interessante Beiträge im Resist-Wiki
Eigenschaften
SX AR-N 8250.03
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Schichtdicke/4.000 rpm: 50 nm
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Auflösung bester Wert: 15 nm
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Kontrast: 8
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Flammpunkt: 38 °C
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Lagerung bis 6 Monate: 8-12 °C
* Die Produkte sind 6 Monate ab Verkaufsdatum bei vorschriftsmäßiger
Lagerung garantiert haltbar und darüber hinaus ohne Gewähr bis Etikettendatum verwendbar.
SX AR-N 8250.06
SX AR-N 8250.18
Passende Prozesschemikalien
Abbildung 1: Dosis Staffel (400 – 5.000 μC/cm²) Medusa 82. Resist: SX AR-N 8200.06/1 – 100 nm, Coating: 60 s 4000 rpm, Soft-bake: 15 min @ 120°C, Exposure: Raith Pioneer, 30 kV, Developing: 90 s AR 300-44; 23°C, Stopping: 30 s DI-Water
Medusa-Produktpräsentation
