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Entwickler AR 300-35

Universeller und gepufferter Entwickler, für Schichten bis 6 µm

Charakterisierung

  • Gepufferte, farblose wässrig-alkalische Lösungen zur Photoresist-Entwicklung mit geringem Dunkelabtrag
  • universell, große Prozessbreite für Schichten bis 6 µm

Interessante Beiträge im Resist-Wiki

Eigenschaften

  • Hauptbestandteile
    Natriummetasililkat/-phosphat
  • Einsatzgebiet
    Tauch-, Puddleentwicklung
  • Normalität
    0,33 n
  • * Die Produkte sind 6 Monate ab Verkaufsdatum bei vorschriftsmäßiger

    Lagerung garantiert haltbar und darüber hinaus ohne Gewähr bis Etikettendatum verwendbar.

Verfügbare Bestellgrößen

  • 1 x 2.500 ml
  • 4 x 2.500 ml
  • 1 x 5.000 ml
  • 4 x 5.000 ml
  • 20 x 5.000 ml

Für weitere Wünsche nehmen Sie bitte Kontakt mit uns auf.

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