Entwickler AR 300-35
Universeller und gepufferter Entwickler, für Schichten bis 6 µm
Charakterisierung
- Gepufferte, farblose wässrig-alkalische Lösungen zur Photoresist-Entwicklung mit geringem Dunkelabtrag
- universell, große Prozessbreite für Schichten bis 6 µm
Interessante Beiträge im Resist-Wiki
Eigenschaften
- HauptbestandteileNatriummetasililkat/-phosphat
- EinsatzgebietTauch-, Puddleentwicklung
- Normalität0,33 n
- * Die Produkte sind 6 Monate ab Verkaufsdatum bei vorschriftsmäßiger
Lagerung garantiert haltbar und darüber hinaus ohne Gewähr bis Etikettendatum verwendbar.
Verfügbare Bestellgrößen
- 1 x 2.500 ml
- 4 x 2.500 ml
- 1 x 5.000 ml
- 4 x 5.000 ml
- 20 x 5.000 ml
Für weitere Wünsche nehmen Sie bitte Kontakt mit uns auf.