AR-N 4400-05 (CAR 44)
Dicker, chemisch verstärkter Resist, galvanostabil, leichtes Removing, hohe Schichten bis 10 µm
Dicker, chemisch verstärkter Resist, galvanostabil, leichtes Removing, hohe Schichten bis 10 µm
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Entwickelte Linien von 10 – 20 µm Breite wurden mittels Flutbelichtung und folgendem Bake gehärtet. Diese Stege wurden schrittweise bis 300 °C getempert. Bis 200 °C bleiben die Strukturen praktisch unverändert.
3 µm Auflösung bei einer Schichtdicke von 15 µm
AR-N 4400-05: Die Empfindlichkeit nimmt gleichmäßig mit steigender Bake-Temperatur zu (BB-UV-Maskeliner, Schichtdicke 5,0 µm).
AR-N 4400-05: Bei einer Schichtdicke von 5 µm wurden 1,0 µm breite Stege erzeugt.
AR-N 4400-05: Die Gradation (Kontrast) beträgt 3,5, die Empfindlichkeit wurde für einen 90 % igen Schichtaufbau (H090) mit 21,5 mJ/cm² bestimmt.