AR-N 4450-10 T (CAR 44)
Produkt auf Anfrage
Dicker, chemisch verstärkter Resist, galvanostabil, extremer Lift-off-Unterschnitt, hohe Schichten bis 20 µm
Charakterisierung
- i-, g–line, E-Beam, Breitband–UV
- chemisch verstärkt, sehr gute Haftung, galvanostabil
- sehr hohe Empfindlichkeit, leicht entfernbar
- Profile hoher Kantensteilheit für exzellente Auflösung
- Abdeckung von Topologien
- für Schichtdicken bis 20 µm und lift-off
- Novolak, Vernetzer und aminischer Säuregenerator
- safer solvent PGMEA
Eigenschaften
- Schichtdicke/1.000rpm10 µm
- Auflösung3,5 µm
- Kontrast10,0
- Flammpunkt42 °C
- Lagerdauer bis 6 Monate10-18 °C
Verfügbare Bestellgrößen
- Produkt auf Anfrage
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Passende Prozesschemikalien
Spinkurve
Spinkurve des AR-N 4450-10 T
Lift-off-Strukturen
AR-N 4450-10 T: Durch eine niedrige Dosis erzeugter Unterschnitt
Strukturauflösung
3 µm Auflösung bei einer Schichtdicke von 15 µm
Prozessparameter
- ResistAR-N 4400-10
- SubstratSi 4“ Wafer
- Temperung95 °C, 10 min, hot plate
- BelichtungMaskaligner MJB 3, Kontaktbelichtung
- EntwicklungAR 300-47, pur, 3 min, 22 °C