AR-P 3540 T
Empfindlicher Resist großer Prozessbreite, für TMAH-Entwickler 0,26n
Empfindlicher Resist großer Prozessbreite, für TMAH-Entwickler 0,26n
Lagerung garantiert haltbar und darüber hinaus ohne Gewähr bis Etikettendatum verwendbar.
Für weitere Wünsche nehmen Sie bitte Kontakt mit uns auf.
Schichtdicke 1,5 µm, Resiststrukturen 0,5 µm