AR-P 5300 Serie
(AR-P 5320, AR-P 5350)
Empfindliche Resists für die Herstellung von Aufdampfmustern mittels Lift-off
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Charakterisierung
- Breitband-UV , i-line, g-line
- hohe Lichtempfindlichkeit, hohe Auflösung
- gute Haftung
- für unterschnittene Strukturen zur Erzeugung von Aufdampfmustern, besonders aus Metall, mittels Lift-off-Technik z.B. für Leiterbahnen
- plasmaätzresistent, th. stabile Strukturen bis 120 °C
- Novolak-Naphthochinondiazid-Kombination
- Safer Solvent PGMEA
Interessante Beiträge im Resist-Wiki
Eigenschaften
AR-P 5320 (Produkt auf Anfrage)
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Schichtdicke/4.000 rpm: 5,0 µm
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Auflösung: 2,0 µm
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Kontrast: 4,0
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Flammpunkt: 44 °C
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Lagerung: 10-18 °C
AR-P 5350
* Die Produkte sind 6 Monate ab Verkaufsdatum bei vorschriftsmäßiger Lagerung garantiert haltbar und darüber hinaus ohne Gewähr bis Etikettendatum verwendbar.
Verfügbare Bestellgrößen (AR-P 5320 auf Anfrage)
- 1 x 100 ml (Testmuster)
- 1 x 250 ml
- 1 x 1.000 ml
- 6 x 1.000 ml
Passende Prozesschemikalien
Resiststrukturen
AR-P 5320: Lift-off-Resiststruktur nach dem Entwickeln
AR-P 5350: Lift-off-Resiststruktur nach der Metallbedampfung
Prozessparameter
- SubstratSi 4“ Wafer
- Temperung105 °C, 4 min, hot plate
- Belichtungg-line stepper (NA: 0,56)
- EntwicklungAR 300-35, 1 : 2, 60 s, 22 °C
Spinkurve
Spinkurve des AR-P 5320 und AR-P 5350