X AR-P 5900/4
(Experimentalmuster / Sonderanfertigung)
Positiv-Photoresist, auch als Schutzlack einsetzbar
(Experimentalmuster / Sonderanfertigung)
Positiv-Photoresist, auch als Schutzlack einsetzbar
Für weitere Wünsche nehmen Sie bitte Kontakt mit uns auf.
X AR-P 5900/4: Resiststruktur nach Behandlung mit 2 n NaOH
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