AR-P 3110
Produkt auf Anfrage
Haftverstärkter Positivresist zur Herstellung von Masken und Feinteilungen
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Schickdicke 0,6 μm; Resiststrukturen 0,38 μm L/S
Bis zu einer Strukturbreite von 0,38 ist eine sehr gute Übereinstimmung gegeben. REM-Messungen: Schichtdicke 560 nm, i-line stepper (NA: 0,65), Entwickler AR 300-47 1 : 1.