AR-P 3500 (T) Serie
(AR-P 3510, AR-P 3510 T, AR-P 3540, AR-P 3540 T)
Empfindliche Standardpositivresists für die Herstellung integrierter Schaltkreise
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Charakterisierung
- Breitband, i-line, g-line
- hohe Lichtempfindlichkeit, hohe Auflösung
- sehr gute Haftung
- 3500 T: robust verarbeitbar, geeignet für TMAH-Entwickler 0,26 n
- plasmaätzresistent, th. stabile Strukturen bis 120 °C
- Novolak-Naphthochinondiazid-Kombination
- Safer Solvent PGMEA
Interessante Beiträge im Resist-Wiki
Eigenschaften
AR-P 3510
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Schichtdicke/4000 rpm: 2,0 µm
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Auflösung: 0,8 µm
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Kontrast: 4,0
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Flammpunkt: 46 °C
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Lagerung bis 6 Monate: 10-18 °C
AR-P 3510 T
AR-P 3540
AR-P 3540 T
* Die Produkte sind 6 Monate ab Verkaufsdatum bei vorschriftsmäßiger Lagerung garantiert haltbar und darüber hinaus ohne Gewähr bis Etikettendatum verwendbar.
Verfügbare Bestellgrößen
- 1 x 100 ml
- 1 x 250 ml
- 1 x 1.000 ml
- 6 x 1.000 ml
Passende Prozesschemikalien
Strukturauflösung
AR-P 3540 T: Schichtdicke 1,5 µm, Resiststrukturen 0,5 µm
Prozessparameter
- SubstratSi 4“ Wafer
- Temperung95 °C, 90 s, hot plate
- Belichtungg-line stepper (NA: 0,56)
- EntwicklungAR 300-44, 60 s, 22 °C
Spinkurve
Spinkurve des AR-P 3510/AR-P 3510 T und AR-P 3540/AR-P 3540 T