Protective Coating Electra 92 (AR-PC 5091)
Leitfähiger Schutzlack für novolakbasierte E-Beam Resists
Top-Layer zur Ableitung von Aufladungen auf isolierenden Substraten
Charakterisierung
- ist als Schutzlack nicht licht-/strahlungsempfindlich
- dünne, leitfähige Schichten zur Ableitung von Aufladungen bei der Elektronenbestrahlung
- Beschichtung auf Novolak E-Beam Resist wie AR-N 7000
- langzeitstabile, preisgünstige Espacer-Alternative
- leichtes Removing mit Wasser nach Bestrahlung
- Polyanilin-Derivat gelöst in Wasser und Isopropanol
Eigenschaften
- Schichtdicke/4.000 rpm42 nm
- Schichtdicke/1.000 rpm100 nm
- Leitfähigkeit (60nm)1,2 S/m
- Flammpunkt28 °C
- Lagerung bis 6 Monate8-12 °C
* Die Produkte sind 6 Monate ab Verkaufsdatum bei vorschriftsmäßiger Lagerung garantiert haltbar und darüber hinaus ohne Gewähr bis Etikettendatum verwendbar.
Passende Prozesschemikalien
- RemoverDI-Wasser
Ableitung von Aufladungen
Auf Quarz geschriebene 200 nm große Quadrate ohne Verzeichnungen durch Aufladungen mit AR-P 662.04 und AR-PC 5090.02.
Prozessparameter
- Substrat4“ Quarz-Wafer mit AR-P 662.04
- Beschichtung2000 rpm, 60 nm auf E-Beamresist
- Temperung85 °C
Leitfähigkeit
Leitfähigkeitsmessungen der durch Schleuderbeschichtung erzeugten Schichten des AR-PC 5090. Mit dünneren Schichten nehmen der Widerstand zu und die Leitfähigkeit ab.
Verfügbare Bestellgrößen
- 1 x 30 ml (Testmuster)
- 1 x 100 ml (Testmuster)
- 1 x 250 ml
- 1 x 1.000 ml
- 6 x 1.000 ml
Für weitere Wünsche nehmen Sie bitte Kontakt mit uns auf.
CSAR 62 auf Glas + Electra 92
30 – 150 nm Quadrate des CSAR 62 auf Glas
Die Kombination von CSAR 62 mit AR-PC 5090.02 bietet beste Möglichkeiten, komplizierte E-Beam-Strukturierungen auf Glas, Quarz oder semiisolierenden Substraten wie z.B. Galliumarsenid durchzuführen. Die sehr gute Empfindlichkeit und höchste Auflösung des CSAR werden durch die Leitfähigkeit des Electra harmonisch ergänzt.
PMMA-lift-off auf Glas mit Electra 92
200 nm Quadrate erzeugt mit 2-Lagen-PMMA-Lift-off
Auf einem Glas-Substrat wurde zuerst der PMMA-Resist AR-P 669.04 (200 nm dick) beschichtet und getempert. Darauf wurde der zweite PMMA-Resist AR-P 679.03 (150 nm dick) aufgebracht und getempert. Dann folgte die Beschichtung mit Electra 92. Nach der Bestrahlung wurde Electra mittels Wasser entfernt, die PMMA-Strukturen mit AR 600-56 entwickelt und das Substrat mit Titan/Gold bedampft. Nach dem Liften mit Aceton blieben die gewünschten Quadrate hochpräzise auf dem Glas zurück.
Wissenschaftsposter MNE 2016
