Produktentwicklungen

Cases von Papa schreiben lassen

„Wissen live“ Best-Practice-Beispiele unter dem Motto: Wissen schafft Vorsprung

20. Mai 2010/von AllAdmin

1. Wie ist ein E-Beam Resist aufgebaut und wie funktioniert er?

23. August 2008/von AllAdmin

1. Wie ist ein Photoresist aufgebaut und wie funktioniert er?

21. August 2008/von AllAdmin

10. Welche Entwickler sind für welche Photolacke optimal und welchen Einfluss haben Entwicklerkonzentration und Temperatur?

12. August 2008/von AllAdmin

10. Wie hoch ist die Ätzresistenz der E-Beam Resists gegenüber starken Säuren?

14. August 2008/von AllAdmin

11.Wie hoch ist die Lösemittelbeständigkeit von E-Beamresistschichten?

13. August 2008/von AllAdmin

11.Wie sind Photolackschichten wieder entfernbar?

11. August 2008/von AllAdmin

12. Welche Anwendungsgebiete haben Schutzlacke (Protective Coating)?

10. August 2008/von AllAdmin

13. Wie arbeiten Umkehrlacke (Image Reversal Resists)?

9. August 2008/von AllAdmin

14. Wie entsteht ein Unterschnitt (Lift-off) bei Einlagen- und Zweilagensystemen?

8. August 2008/von AllAdmin

15 Jahre Allresist und auf dem Mikrosystemkongress in Dresden

16. Oktober 2007/von AllAdmin

15. Wie werden Dicklacke > 10 µm optimal prozessiert?

7. August 2008/von AllAdmin

16 Jahre Allresist – AR NEWS und neue Parameter

16. Oktober 2008/von AllAdmin

16.Welche Auflösung und welchen Kontrast haben Photoresists?

6. August 2008/von AllAdmin

17. Wie hoch ist die Plamaätzresistenz von Photoresists?

5. August 2008/von AllAdmin

18.Wie hoch ist die Ätzresistenz der Photolacke gegenüber starken Säuren?

4. August 2008/von AllAdmin

19.Welche Photolacke sind für Flusssäure (HF)-Ätzungen geeignet?

3. August 2008/von AllAdmin

2. CIMAT-TEAM Workshop

19. Juni 2008/von AllAdmin

2. Platz für Brigitte Schirmer als Unternehmerin des Landes Brandenburg 2014

13. März 2014/von AllAdmin

2. Wie lange sind E-Beamresists haltbar und welches sind die optimalen Lagerbedingungen?

22. August 2008/von AllAdmin

2. Wie lange sind Photoresists haltbar und welches sind die optimalen Lagerbedingungen?

20. August 2008/von AllAdmin

20. Wie hoch ist die Lösemittelbeständigkeit von Photoresistschichten?

2. August 2008/von AllAdmin

24. Ausgabe der AR NEWS

21. April 2012/von AllAdmin

25 Jahre Allresist

16. Oktober 2017/von AllAdmin

25. Ausgabe der AR NEWS

21. Oktober 2012/von AllAdmin

26. Ausgabe der AR NEWS

21. Februar 2013/von AllAdmin

27. Ausgabe der AR NEWS

21. Oktober 2013/von AllAdmin

28. Ausgabe der AR NEWS

21. Mai 2014/von AllAdmin

29. Ausgabe der AR NEWS

21. Oktober 2014/von AllAdmin

2L-Lift-off-System AR-P 617 – AR-P 8100

25. April 2018/von AllAdmin

3. Wie wirken sich Alterungserscheinungen bei Photoresists aus?

19. August 2008/von AllAdmin

3.  Wie ist die optimale Subtratvorbehandlung für E-Beam Resists?

21. August 2008/von AllAdmin

30. Ausgabe der AR NEWS

21. April 2015/von AllAdmin

31. Ausgabe der AR NEWS

21. Oktober 2015/von AllAdmin

32. Ausgabe der AR News

21. April 2016/von AllAdmin

33. Ausgabe der AR NEWS

16. Oktober 2016/von AllAdmin

34. Ausgabe der AR NEWS

21. April 2017/von AllAdmin

35. Ausgabe der AR NEWS

21. September 2017/von AllAdmin

36. Ausgabe der AR News

21. Oktober 2017/von AllAdmin

36. Ausgabe der AR NEWS

22. Oktober 2017/von AllAdmin

37. Ausgabe der AR NEWS

22. April 2018/von AllAdmin

38. Ausgabe der AR NEWS

22. Oktober 2018/von AllAdmin

39. Ausgabe der AR NEWS

22. April 2019/von AllAdmin

4. Überwachungsaudit

23. Februar 2007/von AllAdmin

4. Wie ist die optimale Substratvorbehandlung für Photoresists?

18. August 2008/von AllAdmin

4.  Wie ist die Haftung von E-Beam Resists auf unterschiedlichen Wafern?

20. August 2008/von AllAdmin

40. Ausgabe der AR NEWS

22. Oktober 2019/von AllAdmin

5. Wie ist die Haftung von Photoresists auf unterschiedlichen Wafern?

17. August 2008/von AllAdmin

5.  Wie erfolgt die Belichtung von E-Beam Resists? Wie erreicht man die optimale Belichtungsdosis?

19. August 2008/von AllAdmin

6. Wie sind die optimalen Beschichtungsbedingungen für ein gutes Schichtbild bei Photoresists?

16. August 2008/von AllAdmin

6.Welche Entwickler sind für welche E-Beam Resists optimal und welchen Einfluss haben Entwicklerkonzentration und Temperatur?

18. August 2008/von AllAdmin

7. Wie entstehen bei Photoresistschichten Luftbläschen und wie sind sie vermeidbar?

15. August 2008/von AllAdmin

7. Wie sind E-Beamresistschichten wieder entfernbar?

17. August 2008/von AllAdmin

8. Welche Auflösung haben E-Beam Resists?

16. August 2008/von AllAdmin

8.  Welche Funktion hat die Temperung (Softbake) der Photoresistschichten nach der Beschichtung?

14. August 2008/von AllAdmin

9.  Wie hoch ist die Plamaätzresistenz von E-Beam Resists?

15. August 2008/von AllAdmin

9.Wie erfolgt die Belichtung von Photoresists? Wie erreicht man die optimale Belichtungsdosis? Wie lange können beschichtete und belichtete Substrate vor der Belichtung aufbewahrt werden?

13. August 2008/von AllAdmin

Abstract CSAR 62 auf der HARMNST 2013 angenommen

27. Februar 2013/von AllAdmin

Alkaliresistente Resists

6. August 2001/von AllAdmin

Alkalischer Entwickler für Aluminiumsubstrate

20. Mai 2015/von AllAdmin

Alkalistabiler Positivlack nach Behandlung mit HMDS

19. Januar 2016/von AllAdmin

Alkalistabiler und lösemittelbeständiger Negativresist

16. Juli 2012/von AllAdmin

Alkalistabiler und lösemittelbeständiger Negativresist

31. August 2012/von AllAdmin

Alkalistabiler, leicht strukturierbarer Positivresist SX AR-P 5900/8

13. Juni 2014/von AllAdmin

Allresist 67. Umweltpartner in Brandenburg

15. Februar 2012/von AllAdmin

Allresist auf dem Kongress EIPBN in Puerto Rico

6. Juni 2018/von AllAdmin

Allresist auf der MNE (Wien) und Semicon (Grenoble)

25. August 2016/von AllAdmin

Allresist auf der MNE und Semicon

10. Mai 2017/von AllAdmin

Allresist auf der MNE und SEMICON 2015 – Vorstellung des Electra 92 und Neues zum CSAR 62

25. September 2015/von AllAdmin

Allresist auf der Semicon 2013 in Dresden

10. Oktober 2013/von AllAdmin

Allresist auf der Semicon China

28. März 2003/von AllAdmin

Allresist auf der Semicon in Dresden

11. Oktober 2011/von AllAdmin

Allresist bewirbt sich um den Ludwig Erhard Preis

13. März 2009/von AllAdmin

Allresist bietet viele Lösemittel künftig in leichteren HDPE-Flaschen an

17. Februar 2017/von AllAdmin

Allresist erhält Qualitätspreis Berlin-Brandenburg 2010

22. September 2010/von AllAdmin

Allresist erhöht wiederum nicht die Preise

1. Januar 2009/von AllAdmin

Allresist erneut Aussteller auf der Messe „SEMICON Europa“

3. September 2012/von AllAdmin

Allresist erreicht zweite Stufe des „Großen Preises des Mittelstandes“

26. Mai 2009/von AllAdmin

Allresist erringt im 20. Jahr ihres Bestehens den Ludwig-Erhard-Preis 2012

10. Januar 2013/von AllAdmin

Allresist gewinnt Brandenburger Innovationspreis 2014

5. Mai 2014/von AllAdmin

Allresist GmbH als Exzellente Wissensorganisation ausgezeichnet

15. September 2009/von AllAdmin

Allresist hat zertifiziertes Umweltmanagement nach DIN EN ISO 14001

11. Februar 2011/von AllAdmin

Allresist im neuen Gewand

26. Juli 2007/von AllAdmin

Allresist in Strausberg

30. März 2000/von AllAdmin

Allresist ist Deutschlands Kundenchampions 2010

3. Mai 2010/von AllAdmin

Allresist ist in der Finalrunde bei der Bewerbung um den Qualitätspreis Berlin-Brandenburg 2008

16. Juni 2008/von AllAdmin

Allresist ist Preisträger bei der Verleihung des Brandenburger Technologietransferpreises 2008

11. Juni 2008/von AllAdmin

Allresist mit einer Auszeichnung – dem 2. Platz beim Ludwig-Erhard-Preis geehrt

26. November 2009/von AllAdmin

Allresist nimmt am Projekt Wissenbilanz „3 W“ teil

27. Februar 2009/von AllAdmin

Allresist Sieger der Exzellenten Wissensorganisation

11. November 2015/von AllAdmin

Allresist sponsort die 11th EUROPEAN CONFERENCE on ORGANIZED FILMS

23. Juni 2008/von AllAdmin

Allresist stellt auf der SEMICON Korea 2011 aus

28. Januar 2011/von AllAdmin

Allresist unterstützt Strausberg beim Kampf um die Kompetenzzentren

16. Februar 2006/von AllAdmin

Allresists neue Produktentwicklungen in den Startlöchern

15. April 2017/von AllAdmin

Alternativen zu NMP-haltigen Removern

31. August 2012/von AllAdmin

Aluminiumstrukturen direkt entwickelt

3. März 2002/von AllAdmin

Aluminiumstrukturen direkt entwickelt

27. Februar 2013/von AllAdmin

Andere Bestandteile von Resists

16. Juli 2012/von AllAdmin

Anpassungsfähiger Zweilagenresist AR-BR 5460 für variable Lift-off-Strukturen

21. Juli 2015/von AllAdmin

April 2011: Zweilagensystem für 30-nm-Lift-off Strukturen

1. April 2011/von AllAdmin

April 2012: Negativ-Lift-off-Photoresist AR-N 4450

1. April 2012/von AllAdmin

April 2013: E-Beamresist CSAR 62 – ZEP 520 Alternative (Teil 1)

1. April 2013/von AllAdmin

April 2014: E-Beamresist CSAR 62 – ZEP 520-Alternative (Teil 2)

1. April 2014/von AllAdmin

April 2015: Hochempfindlicher Negativresist AR-N 4400-10

1. April 2015/von AllAdmin

April 2017: Thermisch entwickelbarer Positivresist Phoenix 81

3. April 2017/von AllAdmin

April 2018: Fluoreszierende Negativ-Photoresists Atlas 46 S

6. April 2018/von AllAdmin

April 2019: Phoenix 81

22. April 2019/von AllAdmin

AR-N 7700, 4 µm dick, Proximity-Effekt

27. Februar 2013/von AllAdmin

Atlas 46 für die E-Beam-Lithographie

12. Oktober 2018/von AllAdmin

ATLAS 46 für Nanoimprint-Lithografie

15. Januar 2018/von AllAdmin

Aufladung

4. Oktober 2016/von AllAdmin

Auflösungsvermögen

4. Oktober 2016/von AllAdmin

Ausbleichbare Resists

9. Juli 2018/von AllAdmin

Auszeichnung für Allresist als Deutschlands Mitarbeiterchampions 2012

8. Mai 2012/von AllAdmin

Auszeichnung für Allresist als Exzellente Wissenorganisation durch das Bundesministerium für Wirtschaft und Technologie

30. Oktober 2009/von AllAdmin

Auszeichnung im Qualitätspreis Berlin-Brandenburg für die Allresist GmbH

4. September 2008/von AllAdmin

Belichtung

27. Februar 2013/von AllAdmin

Benchmarking-Workshop bei Allresist

10. März 2011/von AllAdmin

Bestimmung der Leitfähigkeit von Electra 92-Schichten auf Glas

19. Januar 2016/von AllAdmin

Bewerbung um den Zukunftspreis und Einführung einer umfassenden ERP-Software

1. September 2006/von AllAdmin

Black-Protect – stabiler Schutzlack für HF- und KOH-Ätzungen

9. Juli 2018/von AllAdmin

Blitzsauber auf Krise reagiert (MOZ)

7. Mai 2020/von AllAdmin

BOE-Ätzung von SiO2 mit CSAR 62-Maske

13. April 2016/von AllAdmin

Brandenburger High Tech Lack CSAR 62 … Einweihung unseres Anbaus … 22 Jahre Allresist

16. Oktober 2014/von AllAdmin

Brandenburger Innovationsfachkräfte

4. April 2017/von AllAdmin

Brandenburgs Wirtschaftsminister Albrecht Gerber bei Allresist zu Besuch – Photovoltaikanlage verbessert Ökobilanz 2015

11. Februar 2016/von AllAdmin

Brigitte Schirmer als Unternehmerin des Landes Brandenburg mit der Silbermedaille ausgezeichnet

18. Mai 2018/von AllAdmin

Brigitte Schirmer zur Qualitätsbotschafterin Berlin-Brandenburg berufen

22. September 2010/von AllAdmin

CAR 44 auf Kupfer

11. Juli 2017/von AllAdmin

CAR 44 für die E-Beam-Lithographie

12. Oktober 2018/von AllAdmin

Chemisch verstärkter Negativresist (Prozessparameter und Auflösung)

9. Juli 2013/von AllAdmin

Chemisch verstärkter Negativresist ohne Vernetzungstemperung

9. Juli 2013/von AllAdmin

Chemisch verstärkter, hochempfindlicher Negativ-E-Beamresist SX AR-N 7730/37

13. Juni 2014/von AllAdmin

CIMAT Workshop in Golm

21. Dezember 2007/von AllAdmin

CSAR 62 dicke Schichten

27. Oktober 2014/von AllAdmin

CSAR 62 Einlagen-lift-off System

25. April 2018/von AllAdmin

CSAR 62 für dicke Schichten

11. Oktober 2017/von AllAdmin

CSAR 62 für EUV-Anwendungen

13. April 2016/von AllAdmin

CSAR 62 lift-off für dicke Schichten

27. Oktober 2014/von AllAdmin

CSAR 62 Vermeidung von Partikeln bei großflächigen Bestrahlungen

27. Oktober 2014/von AllAdmin

CSAR 62-Entwicklung bei tieferen Temperaturen

5. Oktober 2015/von AllAdmin

CSAR 62-Untersuchungen zu neuen empfindlichen Entwicklern

5. Oktober 2015/von AllAdmin

CSAR 62: Full-Paper-Veröffentlichung im SpringerVerlag und Verkaufsbeginn am 3. Juni

30. Mai 2013/von AllAdmin

CSAR-Strukturen auf Glas

5. Oktober 2015/von AllAdmin

DGQ bei Allresist zum Erfahrungsaustausch

19. Mai 2010/von AllAdmin

Dicker CSAR 62

13. Juni 2014/von AllAdmin

Die Erfolgsgeschichte des Electra 92

17. September 2015/von AllAdmin

Diffraktive Optiken mit dem „analogen“ E-Beamresist

27. Februar 2013/von AllAdmin

Diffraktive Optiken mit dem „analogen“ E-Beamresist X AR-N 7700/18

11. Januar 1999/von AllAdmin

Dosisabhängige Strukturgröße bei Negativresists

20. Mai 2015/von AllAdmin

Dreilagensystem CSAR 62 / PMMAcoMA / PMMA

15. Januar 2018/von AllAdmin

E-Beam Resist

3. April 2017/von AllAdmin

E-Beam Resist: Verfahren

4. Oktober 2016/von AllAdmin

E-Beam Resists auf Basis von Polyphthalaldehyden

21. Juli 2015/von AllAdmin

E-Beam-Lithographie an 5 µm dicken Resistschichten

12. November 1999/von AllAdmin

E-Beam-Resists: Allgemeines

4. Oktober 2016/von AllAdmin

Eingefärbte Negativ-Photoresists

11. Oktober 2017/von AllAdmin

Einladung zur SEMICON Europa 2007 nach Stuttgart vom 9. – 11. Oktober

18. September 2007/von AllAdmin

Einsatz von Electra 92 für REM-Anwendungen

13. April 2016/von AllAdmin

Einweihung des neuen 450 m² großen Anbaues zum 26. Firmenjubiläum

16. Oktober 2018/von AllAdmin

Electra 92-Variante optimiert für Novolak-basierte Resists

5. Oktober 2015/von AllAdmin

Elektronenstrahllacke (Resiste)

4. Oktober 2016/von AllAdmin

Elektronenstrahllithografiesysteme

4. Oktober 2016/von AllAdmin

Empfindlicher Negativ PMMA-Resist (CAR)

27. Oktober 2014/von AllAdmin

Empfindlicher Negativ-E-Beamresist auf der MNE 2010 in Genua vorgestellt

23. September 2010/von AllAdmin

Empfindlicher Negativresist für 405-nm-Laser-Direktbelichter

20. Mai 2015/von AllAdmin

Empfindlicher, ätzstabiler Negativ-E-Beamresist für Arbeiten ohne Gelblicht

13. Juli 2012/von AllAdmin

Entwickler AR 300-35 für alkaliempfindliche Substrate

27. Oktober 2014/von AllAdmin

Entwickler für CSAR 62 (AR-P 6200)

13. Juni 2014/von AllAdmin

Entwickleralterung

13. Juli 2012/von AllAdmin

Entwicklerkaskade

11. Juli 2017/von AllAdmin

Entwicklertypen

9. Juli 2013/von AllAdmin

Entwicklung dicker Negativresistschichten

7. Oktober 2013/von AllAdmin

Entwicklungsverfahren

30. Juli 2012/von AllAdmin

Erfolgreiche Zertifizierung nach DIN ISO 9001:2000

6. Januar 2002/von AllAdmin

Erfolgreicher Abschluss der Semicon Europe für Allresist

12. Oktober 2007/von AllAdmin

Erfolgreiches QMS-Wiederholungsaudit

29. Februar 2008/von AllAdmin

Erzeugung senkrechter Flanken mit CAR44

20. Januar 2017/von AllAdmin

Erzeugung von Sekundärelektronen

4. Oktober 2016/von AllAdmin

Erzeugung von unterschnittenen Strukturen mittels Negativresists

20. Mai 2015/von AllAdmin

Ethanol und Toluol beständiger Photoresist AR-U 4060

21. Juli 2015/von AllAdmin

Eurostar-Projekt: PPA-Litho

31. März 2017/von AllAdmin

Eurostar-Projekt: PPA-Litho

31. März 2017/von AllAdmin

Evaluierung diverser Entwickler für E-Beam belichtete CSAR 62-Schichten (100kV)

29. September 2016/von AllAdmin

Fachartikel in der Nanotechnologie (Electra 92)

12. Oktober 2015/von AllAdmin

FAQ´s der Allresist – Beginn eines Diskussionsforums

28. August 2008/von AllAdmin

Fluoreszierende Resiststrukturen

11. Oktober 2017/von AllAdmin

Fluoreszierende Resiststrukturen Photoresists

25. April 2018/von AllAdmin

Förderung unternehmensWert:Mensch

4. Oktober 2019/von AllAdmin

Forschungsprojekte

4. April 2017/von AllAdmin

Gemeinsam gegen Corona – preiswerte Lieferung von Desinfektionsmitteln

23. April 2020/von AllAdmin

GMM-Workshop Technologien und Werkstoffe in der Mikro- und Nanosystemtechnik

7. Mai 2007/von AllAdmin

Gründung des German Innovation Centrums in Changzhou (China)

26. September 2013/von AllAdmin

Haftfestigkeit des AR 300-80

7. Oktober 2013/von AllAdmin

Haftvermittler HMDS und Diphenylsilandiol (AR 300-80)

28. Februar 2013/von AllAdmin

HARMST 2005 in Korea

8. Juni 2005/von AllAdmin

Herstellung plasmonischer Strukturen mit CSAR 62

5. Oktober 2015/von AllAdmin

Herstellung unterschnittener Strukturen in 3-Lagenprozessen für T-Gates

29. September 2016/von AllAdmin

HF-Ätzung von GaAs mit CSAR 62-Maske

13. April 2016/von AllAdmin

Hochauflösender Negativ-E-Beamresist

13. Juli 2012/von AllAdmin

Hochauflösender PMMA-Einlagen-Resist

31. August 2012/von AllAdmin

Hochempfindlicher E-Beamresist AR-P 617 (PMMA-Copolymer)

13. April 2016/von AllAdmin

Hochempfindlicher Negativresist für i-line-Lithographie – AR-N 4300

31. Oktober 2003/von AllAdmin

Hohe Auflösung auf Quarz durch Electra 92 auf einem HSQ-Resist

21. Juli 2015/von AllAdmin

Innovative Neuentwicklungen auf der MNE 2017

28. September 2017/von AllAdmin

Interferenzlithographie

4. Juli 2016/von AllAdmin

Investition in die Sonne – Allresist schafft mit Photovoltaik nachhaltigen Nutzen

11. Mai 2015/von AllAdmin

Januar 2011: Schnelltrocknender, hochauflösender Resist für Feinteilungen

1. Januar 2011/von AllAdmin

Januar 2012: Laser-Belichtung von > 500 nm bis NIR

1. Januar 2012/von AllAdmin

Januar 2013: SX AR-N 4340/8 für Laser-Interferenz-Lithographie

1. Januar 2013/von AllAdmin

Januar 2015: Hochtemperaturbeständiger Positivresist SX AR-PC 3500/8

1. Januar 2015/von AllAdmin

Januar 2016: Electra 92 Produktionseinführung

1. Januar 2016/von AllAdmin

Januar 2017: Optimierung des Negativ-Sprühresist AR-N 2200

1. Januar 2017/von AllAdmin

Januar 2017: Optimierung des Negativ-Sprühresist AR-N 2200

2. Januar 2017/von AllAdmin

Januar 2018: SU 8-Alternative – Negativ-Photoresist Atlas 46

2. Januar 2018/von AllAdmin

Januar 2020: Schwarzlack SX AR-N 8355/7

25. Februar 2020/von AllAdmin

Juli 2010: SX AR-N 7520/3 – erste Ergebnisse auf der MNE 2010 in Genua

1. Juli 2010/von AllAdmin

Juli 2011: SX AR-P 7100 – ein silylierbarer Resist

1. Juli 2011/von AllAdmin

Juli 2012: Innovation zur 32-nm-Technologie: SX AR-N 7520/4

1. Juli 2012/von AllAdmin

Juli 2013: Thermostabiles Zweilagensystem – SX AR-N 4340/10 & AR-P 5460

1. Juli 2013/von AllAdmin

Juli 2014: Electra 92 – leitfähiger Schutzlack für E-Beam-Applikationen

1. Juli 2014/von AllAdmin

Juli 2015: Prozessangepasster Zweilagenresist AR-BR 5460

1. Juli 2015/von AllAdmin

Juli 2016: Negativ-PMMA-Resist für die Photolithographie

1. Juli 2016/von AllAdmin

Juli 2018: Medusa 82 – die Alternative zum HSQ-Resist

3. Juli 2018/von AllAdmin

Juli 2020: Bottom-Resist AR-BR 5400, das „Arbeitspferd“ für Zweilagenprozesse

28. Juli 2020/von AllAdmin

Kleine Firma – großer Effekt (MOZ)

13. November 2020/von AllAdmin

Kollabieren von extrem aufgelösten E-Beam-Resiststrukturen

27. Februar 2013/von AllAdmin

Kooperation in China begonnen

12. Juni 2005/von AllAdmin

Kundeninformationen zum Jahresbeginn 2014

8. Januar 2014/von AllAdmin

Lagerung und Alterung

13. Juli 2012/von AllAdmin

Langzeitstabilität von Electra 92

5. Oktober 2015/von AllAdmin

Laser-Direktbelichtung mit dem AR-P 3540

13. Juni 2014/von AllAdmin

Leitfähige Beschichtung für E-Beamresists

7. Oktober 2013/von AllAdmin

Leitfähige Schichten

31. August 2012/von AllAdmin

Leitfähiger Schutzlack für die E-Beam-Lithographie SX AR-PC 5000/90.2

13. Juni 2014/von AllAdmin

Leitfähigkeit unter den Anwendungsbedingungen der E-Beam Lithographie

5. Oktober 2015/von AllAdmin

Lichtempfindliche Komponenten

13. Juli 2012/von AllAdmin

Lift off (Einlagen – Zweilagen)

13. Juli 2012/von AllAdmin

Lösemittel in E-Beamresists

9. Juli 2013/von AllAdmin

Lösemittel Remover

30. Juli 2012/von AllAdmin

Lösemittel und Arbeitsschutz

15. August 2012/von AllAdmin

Medusa 82 auf der MNE auf Rhodos

30. September 2019/von AllAdmin

Medusa 82 für EUV-Anwendungen

12. Oktober 2018/von AllAdmin

Medusa 82 mit Photoacidgenerator (PAG)

12. Oktober 2018/von AllAdmin

Medusa 82 Post-Exposure-Bake Einfluss (PEB)

12. Oktober 2018/von AllAdmin

Medusa 82 – die Alternative zum HSQ-Resist, Lagerstabilität

9. Juli 2018/von AllAdmin

Ministerpräsident Dietmar Woidke besucht Allresist in Strausberg

17. August 2020/von AllAdmin

Mit 100kV geschriebene CSAR 62-Nanostrukturen

4. Juli 2016/von AllAdmin

Mit NIR-Lasern strukturierbare Photoresists

27. Oktober 2014/von AllAdmin

MNE-Erfolg mit Medusa 82 in Kopenhagen

28. September 2018/von AllAdmin

Nasschemisches Ätzen

31. August 2012/von AllAdmin

Negativ-CAR PMMA Resist SX AR-N 4810/1

15. Januar 2018/von AllAdmin

Negativ-Poly (hydroxystyren-co-MMA)-Photoresist

27. Februar 2013/von AllAdmin

Negativ-Poly(hydroxystyren)-Photoresist

27. Februar 2013/von AllAdmin

Negativ-Polyimid-Photoresist

27. Februar 2013/von AllAdmin

Negativ-Polyimid-Photoresist

16. Juli 2012/von AllAdmin

Negativ-Zweilagen-lift-off System

9. Juli 2013/von AllAdmin

Neue Entwickler für AR-P 617

13. April 2016/von AllAdmin

Neue Entwickler für PMMAcoMA (AR-P 617, 50 kV)

29. September 2016/von AllAdmin

Neuer AR 300-80 mit Kontaktwinkelmessung

11. Juli 2017/von AllAdmin

Neuer Entwickler für AR-P 5320

20. Mai 2015/von AllAdmin

Neuer Lösemittel Remover

9. Juli 2013/von AllAdmin

Neuer Safer Solvent Remover AR 300-76

13. Juni 2014/von AllAdmin

Neues Verfahren zur Sprühbeschichtung tiefer Topologien mit SX AR-P 1250/20

27. Februar 2013/von AllAdmin

Nominierung für das Finale des Innovationspreises Berlin/Brandenburg

25. November 2005/von AllAdmin

Oktober 2010: SX AR-P 3210/22 – Dicklack mit verbesserter Abbildungsgüte

1. Oktober 2011/von AllAdmin

Oktober 2011: SX AR-N 5000/40 – Ein Zweilagen-Resistsystem zur Flusssäureätzung

1. Oktober 2011/von AllAdmin

Oktober 2012: Negativ-Photoresists AR-N 4400 – optimiertes Trocknungsregime

1. Oktober 2012/von AllAdmin

Oktober 2013: Thermostabiler Negativresist SX AR-N 4340/6

1. Oktober 2013/von AllAdmin

Oktober 2015: E-Beamlithographie auf Glas – CSAR 62 & Electra 92

1. Oktober 2015/von AllAdmin

Oktober 2016: Optimierte T-Gate-Struktur mit Dreilagensystem

1. Oktober 2016/von AllAdmin

Oktober 2017: Fluoreszierende Resiststrukturen mit SX AR-P 672.08

18. September 2017/von AllAdmin

Oktober 2018: Medusa 82 – Stabiler und empfindlicher als der HSQ

21. Oktober 2018/von AllAdmin

Oktober 2019: Medusa 82 UV

22. Oktober 2019/von AllAdmin

Oktober 2014: Safer Solvent Schutzlack SX AR-PC 5040/1 

1. Oktober 2014/von AllAdmin

Phoenix 81 – Lagerbedingungen und Versand

9. Juli 2018/von AllAdmin

Photoresistbeschichtungen auf Teflonsubstraten

27. Februar 2013/von AllAdmin

Platz für vier Asien-Projekte (MOZ)

30. Oktober 2020/von AllAdmin

PMMA-Lift-off-Strukturen auf Halb-Edelstein-Substraten mittels Electra 92

5. Oktober 2015/von AllAdmin

PMMA-Schutzlack Reduzierung Zuckerwatte-Effektes

27. Oktober 2014/von AllAdmin

Polyimid-Zweilagensystem

31. August 2012/von AllAdmin

Polymere (Schichtbildner)

20. März 2013/von AllAdmin

Positiv-Polyimid-Einlagenresist

27. Februar 2013/von AllAdmin

Positiv-Polyimid-Resist für die E-Beam-Lithographie

13. Juli 2012/von AllAdmin

Positiv-Zweilagen-lift-off System

9. Juli 2013/von AllAdmin

Positivresist für temperatur-empfindliche Substrate

9. Juli 2013/von AllAdmin

Poster auf der HARMST 2007 in Besancon

8. Juni 2007/von AllAdmin

Presseempfang bei Allresist für „10 Jahre Allresist in Strausberg und 2. Platz beim Ludwig-Erhard-Preis“

27. November 2009/von AllAdmin

Presseerklärung zur Europawoche von Minister Christoffers

21. April 2010/von AllAdmin

Prinzipien und Funktionsweisen

24. Juli 2012/von AllAdmin

Produktentwicklungen

10. Mai 2019/von AllAdmin

Produktionstrakt-Erweiterung

29. April 2019/von AllAdmin

Proximity-Effekt

4. Oktober 2016/von AllAdmin

Prozessablauf E-Beamresist

30. Juli 2012/von AllAdmin

Prozessablauf Photoresist

30. Juli 2012/von AllAdmin

Prozessbedingungen

30. Juli 2012/von AllAdmin

Qualifizierungsmaßnahmen im Rahmen des QMS

13. August 2005/von AllAdmin

Qualität boxt sich durch

3. Juli 2008/von AllAdmin

Qualitätspolitik der Allresist

4. Februar 2009/von AllAdmin

Qualitätspreis Berlin-Brandenburg 2012 ausgelobt

11. April 2011/von AllAdmin

Qualitätstag Berlin-Brandenburg 2009

22. April 2009/von AllAdmin

Raster- und Vector-Scan-Prinzip

4. Oktober 2016/von AllAdmin

Remover Allgemein

30. Juli 2012/von AllAdmin

Resist für 488 nm Belichtungswellenlänge

31. August 2012/von AllAdmin

Resist für das Nahe Infrarot (NIR)

16. Juli 2012/von AllAdmin

Resist-Wiki

3. April 2017/von AllAdmin

Resist-Wiki online und neue Elektronenstrahlresists

16. Juli 2012/von AllAdmin

Resists für den Wellenlängenbereichvon 488 nm

9. Mai 2001/von AllAdmin

RKW-Arbeitskreis Qualität bei Allresist

3. Februar 2010/von AllAdmin

Safer solvent PMMA-Schutzlack

27. Oktober 2014/von AllAdmin

SCALPEL

4. Oktober 2016/von AllAdmin

Schirmers beim Pressefrühstück in Staatskanzlei: Brandenburg ist eine erfolgreiche Wirtschaftsregion 25 Jahre nach dem Mauerfall

29. Oktober 2014/von AllAdmin

Schreibzeit

4. Oktober 2016/von AllAdmin

Schutzlack als Sprühresist zur Oberflächenglättung

9. Juli 2013/von AllAdmin

Schutzlack gegen mechanische Beschädigungen

4. Oktober 2016/von AllAdmin

Schutzlacke für KOH-Ätzungen

16. Juli 2012/von AllAdmin

Sensor Messe in Nürnberg

9. Mai 2003/von AllAdmin

Sprühlacke für unterschiedliche Topologien (Negativ)

31. August 2012/von AllAdmin

Sprühlacke für unterschiedliche Topologien (Positiv und Negativ)

31. August 2012/von AllAdmin

Stabilisierung/ Härtung von Lackschichten

20. Mai 2015/von AllAdmin

Stopper

30. Juli 2012/von AllAdmin

Streifzüge durch die Lithographie der Mikroelektronik (Matthias Schirmer)

19. Mai 2020/von AllAdmin

Streuung

4. Oktober 2016/von AllAdmin

Strombilanz der Allresist-Photovoltaikanlage

8. Februar 2016/von AllAdmin

Strukturierung des leitfähigen Schutzlacks Electra 92

21. Juli 2015/von AllAdmin

Strukturierung mittels Ablation des Resistmaterials

9. Juli 2018/von AllAdmin

Strukturierung von Polyphthalaldehyden mittels Photolithographie

21. Juli 2015/von AllAdmin

Surface Imaging Resistsystem SX AR-N 7100 – silylierbarer Photoresist

4. Juli 2016/von AllAdmin

SX AR-PC 5060 F-Protect (Cytop-Ersatz)

15. Januar 2018/von AllAdmin

Technologietransferpreis an Allresist und IDM e.V. verliehen

25. März 2002/von AllAdmin

Temperaturbeständigkeit E-Beam-Polymere

4. Oktober 2016/von AllAdmin

Temperaturstabiler Negativresist

16. Juli 2012/von AllAdmin

Thermo-strukturierbare Polymere – neue Lithographie-Anwendungen

21. Juli 2015/von AllAdmin

Thermostabiler Photoresists

27. Oktober 2014/von AllAdmin

Tickets für Sie – Allresist auf der Messe „SEMICON Europa“

19. September 2013/von AllAdmin

Top Surface Imaging E-Beamresist

3. Februar 2017/von AllAdmin

Top Surface Imaging Photoresist – Wirkprinzip

30. Januar 2017/von AllAdmin

Trockenchemisches Ätzen

31. August 2012/von AllAdmin

Umweltministerin Anita Tack übergibt Allresist Urkunde zur Umweltpartnerschaft

9. Februar 2012/von AllAdmin

Unser CSAR 62 – Ihre attraktive Alternative zum ZEP – ab 2. Mai verfügbar

24. April 2013/von AllAdmin

UV-Härtung

30. Juli 2012/von AllAdmin

UV-Strukturierung PMMA Resists

31. August 2012/von AllAdmin

Verbesserter Schutzlack SX AR-PC 5000/31

13. Juni 2014/von AllAdmin

Verdünner (Lösemittel)

15. August 2012/von AllAdmin

Verhältnis Auflösung und Dosis am Beispiel des E-Beamresist SX AR-N 7530/1

13. Juni 2014/von AllAdmin

Verleihung des Qualitätspreises Berlin-Brandenburg 2012 in Gegenwart der Qualitätsbotschafterin Brigitte Schirmer

7. September 2012/von AllAdmin

Vernetzer (cross linker)

13. Juli 2012/von AllAdmin

Verwendung von CSAR 62 zur Herstellung von Nanostrukturen auf GaAs-Substraten

4. Juli 2016/von AllAdmin

Verwendung von PPA in Mehrlagenprozessen

20. Januar 2017/von AllAdmin

Viele Lösemittel in leichteren HDPE-Flaschen

17. Februar 2017/von AllAdmin

Vorstellung CSAR 62 auf der MNE 2013 in London

16. September 2013/von AllAdmin

W+M-Artikel: Das Monopol geknackt

3. März 2015/von AllAdmin

Wasserbasierte Resists

27. Oktober 2014/von AllAdmin

Wasserfrei entwickelbarer Speziallack SX AR-N 4810/1

20. Mai 2015/von AllAdmin

Wässrig-alkalische Remover

30. Juli 2012/von AllAdmin

Wässriger Negativresist auf Gelatine Basis

13. Juni 2014/von AllAdmin

Wässriges Resistsystem

7. Oktober 2013/von AllAdmin

Weitere experimentelle Entwickler für AR-P 617

29. September 2016/von AllAdmin

Wiederentfernbarer Negativresist für dicke Schichten – CAR 44

11. Oktober 2004/von AllAdmin

Wissenschaftlicher Mitarbeiter (m/w/d) für Forschung, Produktentwicklung und Produktvermarktung

23. Juli 2020/von AllAdmin

Zeitungsartikel zu 25 Jahren Allresist

14. November 2017/von AllAdmin

Zertifizierung nach DIN ISO 9001:2008

20. Februar 2009/von AllAdmin

Zusammensetzung Photoresist

13. Juli 2012/von AllAdmin

Zweilagen Photoresistsystem für wasserempfindliche Substrate

21. Juli 2015/von AllAdmin

Zweilagen-E-Beam Resist System mit Novolaken als Bottomresist

19. Januar 2016/von AllAdmin

Zweilagen-PMMA-E-Beam Resist System für höchste Lift-off-Auflösung

21. September 2012/von AllAdmin

Zweilagen-Resistsystem zur Flusssäureätzung

16. Juli 2012/von AllAdmin