Es gibt 2 Hauptgruppen von Entwicklern: die lösemittelhaltigen und die wässrig-alkalischen Entwickler. Die Lösemittelhaltigen sind vor allem für die PMMA-E-Beamresists (→ Prozessablauf E-Beamresists), den CSAR 62 (→ CSAR 62 Entwickler) und auch für Sonderprodukte auf Polymer-Basis (z.B. SX AR-N 4800/16 (PMMA)) bzw. SX AR-PC 5000/40 (KOH- und HF-Schutzlack) vorgesehen. Dabei kommen überwiegend Lösemittel wie MIBK, IPA (z.T. mit Wasser) beim PMMA, Amylacetat, MIBK, DEK, DEM, Xylol beim CSAR 62 und Ethylbenzen und Hexan bei den Schutzlacken zur Anwendung.
Die wässrig-alkalischen Entwickler unterteilen sich in die Metallionenfreien (MIF) und die anorganischen Metallsalze. Die MIF-Entwickler beinhalten als Wirkkomponente Tetramethylammonium Hydroxid (TMAH). Die kommerzielle 25 % ige Lösung wird auf 2,38 % für die Herstellung einer 0,26 n Lösung (n = Normalität) verdünnt. Das ist die Standardkonzentration, mit der weltweit die meisten Resists entwickelt werden. Für einige Resists, speziell der Allresist Resists, werden jedoch niedrig konzentriertere Entwickler benötigt. Dort wird die Normalität von < 0,26 n bis auf 0,1 n eingestellt. Die 0,1 n Entwickler sind die dünnsten empfohlenen Lösungen, da aufgrund der geringen TMAH-Konzentration schon geringe Mengen des CO 2 aus der Luft die Normalität innerhalb weniger Stunden verändern. Zur besseren Benetzung beinhalten die MIF-Entwickler Tenside, die die Oberflächenspannung optimieren.
Die Entwickler aus den Metallsalzen bestehen aus Metasilikaten, Phosphaten, Boraten, NaOH und KOH. Die einwertigen Salze NaOH und KOH sind sehr starke Entwickler, sie entwickeln zügig und werden für hohe Schichtdicken eingesetzt. Die Nachteile bestehen in einem möglichen Angriff auf die unbelichteten Flächen (Dunkelabtrag) und in einem niedrigen Kontrast.
Die mehrwertigen Silikate, Phosphate und Borate wirken aufgrund der Mehrwertigkeit als Puffersysteme. Dadurch ist eine schonendere Entwicklung möglich, es gibt praktisch keinen Dunkelabtrag bei den empfohlenen Konzentrationen. Sie sind in der Nutzungsdauer ergiebiger als die MIF-Entwickler und lassen sich einfacher bzw. genauer verdünnen. Auf geringe Konzentrationsabweichungen reagieren sie kaum in ihrer Entwicklerstärke, im Gegensatz zu den TMAH-Entwicklern. Trotzdem wird für alle Entwickler-Verdünnungen empfohlen, wenn es geht, eine Waage zu verwenden. Durch die höhere Genauigkeit gegenüber einer Mensur oder einem Becherglas (Volumenmessungen sind zudem Temperatur abhängig) ist ein optimales Entwicklungsergebnis gewährleistet.
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