Remover haben die Aufgabe, die Lackstrukturen bzw. -Reste nach Abschluss des gewünschten technologischen Schrittes (Dotieren, Ätzen u.a.) restlos zu entfernen.
Zu Beginn der Photolithographie wurden kräftige Remover eingesetzt, die meist über eine große Lösekraft verfügten. Damals war aber der Umweltgedanke noch nicht so ausgeprägt, so dass solche Lösemittel wie DMF (Dimethylformamid), DMSO (Dimethylsulfoxid) oder Aminoalkohole verwendet wurden. Heutzutage bemühen sich die Resisthersteller um die Herstellung umweltverträglicherer Remover. So hat Allresist sofort nach Bekanntwerden der neuen Gefährdungseinstufung des NMP (N-Methylpyrrolidon) 2011 dieses durch das unbedenkliche NEP (N-Ethylpyrrolidon) ersetzt. In schwierigen Fällen (nach intensiven Plasmaätzschritten oder Sputtern) kann Ultra- oder Megaschall den Lackentfernungsprozess unterstützen. Dabei dürfen aber empfindliche Strukturen auf dem Wafer nicht zerstört werden.
Weiterhin werden auch die umweltfreundlichen Remover AR 300-76 und AR 600-71 angeboten.
Die Remover werden im Verlaufe eines Dauergebrauches schwächer, der Gehalt an gelöstem Photoresist wird immer höher. Die theoretische Sättigungsgrenze wird man nie erreichen (sie liegt weit über 50 % Feststoffgehalt), da aber der gebrauchte Remover völlig undurchsichtig und mit Partikeln wird, ist eine reproduzierbare Reinigung nicht mehr möglich. Außerdem sinkt die Lösegeschwindigkeit, der Removing-Prozess dauert länger. Gängige Praxis ist eine Kaskadenreinigung. Dabei werden 3 Bäder mit dem Remover hintereinander betrieben. In das Erste kommen die belackten Wafer, die Lackreste werden fast vollständig entfernt, dann geht es in das zweite Bad, im Dritten werden allerletzte Reste entfernt. Anschließend wird mit Wasser gespült. Nach dem Erreichen der festgelegten Lösekapazität wird das erste Bad entsorgt, die beiden anderen rücken einen Platz weiter vor.
Eine grobe Abschätzung über die Ausnutzung von Removern am Beispiel des AR 300-70 (NEP) ergibt, dass bei einer Schichtdicke von 2 µm ca. 100 4-Zoll-Wafer pro Liter Remover sicher gereinigt werden können.
Die Funktion des Lackentfernens wird auch von stark oxidierenden Säuren wie Königswasser, Piranha, Schwefelsäure oder Salpetersäure erfüllt. Für eine finale Reinigung kommen solche Säuren zum Einsatz. Aber neben dem Umweltaspekt (Entsorgung der gebrauchten Säuren) greifen diese Mischungen meist nicht nur den Lack, sondern auch andere Materialien auf der Wafer Oberfläche an.