Stopper im klassischen Sinn werden hauptsächlich in der Elektronenstrahllithographie beim Einsatz von PMMA-Resists verwendet. Dabei haben sie die Funktion, nach der Entwicklung der bestrahlten PMMA-Schichten den Entwicklungsprozess abzubrechen und den Lösemittel-Entwickler, der jetzt PMMA-Reste beinhaltet, rückstandsfrei abzuspülen. Verwendet man keinen Stopper, können sich aus dem verunreinigten Entwickler Polymerreste bei der Trocknung auf der Oberfläche abscheiden. Diese kaum sichtbaren Schleier sind nach der vollständigen Trocknung nur schwer zu entfernen (am besten mit einem O2-Plasma), stören aber z.B. bei einer anschließenden Metallisierung.
Auch bei anderen lösemittelentwickelbaren Polymeren (z.B. SX AR-PC 5000/40 oder Polystyren) empfiehlt sich der Einsatz von Stoppern aus dem gleichen Grund.
Stopper im nichtklassischen Sinn ist das DI-Wasser bei den Photoresists (Novolak-basiert). Auch hier wird der Entwicklungsprozess abrupt beendet und der novolakhaltige Entwickler abgespült. Im Unterschied zu den lösemittelentwickelbaren Polymeren, die erst in dem (Lösemittel)-Entwickler angequollen, mit einer Lösemittel-„Hülle“ umgeben und dann endgültig aufgelöst werden, lösen sich die kresolhaltigen Novolake spontan. In dem basischen Milieu werden aus den Kresolen Kresolate (Anionen), die somit einen Polyelektrolyten bilden (der Novolak besteht aus ca. 10 – 20 Kresolen, die alle zum Kresolat werden können), der sich sehr gut in dem alkalischen Entwickler löst.
Prozesschemikalien Stopper