Ein Verfahren bei dem der Elektronenstrahl zeilenweise über das Belichtungsfeld geführt wird als Raster-Scan-Prinzip bezeichnet. Vergleichbar mit der Strahlführung in einem Elektronenmikroskop. Ein Belichten der Strukturen erfolgt durch Ein- und Ausschalten des Elektronenstrahls, dabei wird das Substrat kontinuierlich bewegt (XY-Steuerung).
Beim Vector-Scan-Prinzip, das kürzere Prozesszeiten benötigt, wird im Gegensatz zur Raster–Scan–Methode der Elektronenstrahl gezielt auf die zu belichtende Bereiche abgelenkt und dort in einer wellen-oder spiralförmigen Bewegung geschrieben. Nach beendeter Belichtung im Ablenkfeld fährt der X-Y-Tisch zur nächsten definierten Position.