Im April 2013 berichteten wir im Rahmen unseres „Resist des Monats“ über den CSAR 62. Nach einer raschen Entwicklungsphase begann bereits im Mai der Verkauf des neuen Elektronenstrahllackes. Mittlerweile haben sehr viele Kunden den CSAR 62 eingesetzt, mit einem durchweg positiven Feedback über die Anwendungseigenschaften, Verfügbarkeit und Preis.

Selbstverständlich haben wir dieser Resistserie weiterentwickelt. Neben den für die Elektronenstrahllithographie typischen Schichtdicken von 80, 200 und jetzt 400 nm (AR-P 6200.04, AR-P 6200.09 und AR-P 6200.13) wurde auch ein CSAR 62 für höhere Schichtdicken konzipiert. Derzeit eruieren wir mit dem Muster SX AR-P 6200/10, ob eine Schichtdicke von 1,5 µm bei 1000 rpm für unsere Kunden interessant ist. Diese Abbildung zeigt eine generierte Struktur bei höherer Schichtdicke.

200 nm Gräben in einer 820 nm Resistschicht mit dem SX AR-P 6200/10

Darüber hinaus haben wir neue Entwickler getestet. Mit dem Safer solvent Entwickler AR 600-549 (Flammpunkt 85 °C), ist zudem die Empfindlichkeit des Resists im Vergleich zu dem Standard-Entwickler AR 600-546 doppelt so hoch. Das ist auch für die Strukturierung von Maskenblanks von Wichtigkeit. Erste Muster von beschichteten Maskenblanks werden in wenigen Monaten verfügbar sein.

Diese neuen positiven Aspekte bewogen uns, den CSAR 62 erneut zum Resist des Monat April 2014 zu küren.