Resist des Monats Archiv: April 2012

Resist des Monats April 2012:

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Negativ-Lift-off-Photoresists AR-N 4450

In der 20. Ausgabe der AR NEWS wurde über den Negativ-Lift-off-Resist AR-N 4450 berichtet. Diese Arbeiten wurden weitergeführt. Jetzt stehen dem interessierten Anwender Prozess-Parameter zur Verfügung, um sich den gewünschten Unterschnitt einstellen zu können.

Die Steuerung erfolgt hauptsächlich durch die Belichtungszeit und wird durch die Bedingungen des Post-Exposure-Bake unterstützt. In den Abbildungen sind die Variations- möglichkeiten der Strukturen zu erkennen. Die Präzisierung der Parameter des AR-N 4450-10 waren uns Anlass, diesen Lack zum Resist des Monats zu wählen. Gern geben wir bei Bedarf die technischen Details an Sie weiter, damit Sie Ihre Lift-off-Prozesse verbessern können.

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