Resist des Monats

April 2013: E-Beamresist CSAR 62 – ZEP 520 Alternative (Teil 1)

Die Eigenschaften des ZEP 520 sind bei den Anwendern beliebt, Preise und Service jedoch gefürchtet. Das war für uns eine große Motivation, einen ähnlichen und bereits jetzt verbesserten E-Beamresist im Interesse unserer Kunden zu entwickeln.

In bewährter Kooperation mit dem IDM e.V. Teltow und der MLU Halle wurden zuerst neue Polymere aus Methylstyrenen und Halogen-Acrylaten synthetisiert und mittels Elektronenstrahllithographie getestet. Empfindlichkeitssteigerungen wurde durch den Zusatz von halogenhaltigen Säuregeneratoren erreicht, deshalb wurde der Name CSAR (Chemical Semi Amplified Resist) gewählt. Die ersten Ergebnisse wurden vor kurzem in unseren AR NEWS (26. Ausgabe) veröffentlicht.

Herausragend schon jetzt ist die realisierte Auflösung von 10-nm-Gräben bei 180 nm Schichtdicke (siehe Abb. 1). Bemerkenswert ist auch, dass sich leicht 10-nm-lift-off-Strukturen im Einlagenprozess erzielen lassen (siehe Abb. 2). Weitere Optimierungsarbeiten bezüglich Empfindlichkeit und Plasmaätzstabilität befinden sich in der abschließenden Phase und lassen weitere sehr gute Ergebnisse erwarten.

In wenigen Wochen kann Allresist erste Lackmuster interessierten Kunden zur Verfügung stellen. Wir werden unseren bekannten guten Service und die rasche Lieferzeit natürlich auch beim neuen CSAR 62 beibehalten.

Diese interessanten bedeutenden Ergebnisse sind uns Anlass, unsere Neuentwicklung CSAR 62 zum Resist des Monats zu machen.

csar1

Abb. 1: 10 nm Auflösung mit dem SX AR-P 6200/2 bei einer Schichtdicke von 180 nm

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Abb. 2: Chromstrukturen nach dem Lift-off-Prozess mit dem SX AR-P 6200/2 (Artwork)

Übersicht Resist des Monats: