Die Schutzlacke AR-PC 503 und AR-PC 504 werden schon seit vielen Jahren erfolgreich bei aggressiven KOH-Ätzungen eingesetzt. Diese Resists werden traditionell mit dem Lösemittel Chlorbenzen hergestellt. Aus der Motivation heraus, den Anwendern nicht nur die beste Qualität, sondern auch den höchstmöglichen Gesundheitsschutz zu bieten, wurde ein PMMA-Schutzlack mit dem safer solvent Lösemittel Anisol konzipiert.
Die Testungen im eigenem Haus zeigten, dass die ausgezeichnete Schutzwirkung der PMMA-Schicht auch in Anisol erhalten bleibt, bestätigt werden muss nur noch die gute Haftfestigkeit auf unterschiedlichen Kundensubstraten. Daher befindet sich das Testmuster des SX AR-PC 5040/1 derzeit in der Anwendererprobung.
Photoresist Schutzlack