Eine weitere maskenbasierte Technik ist SCALPEL Scattering with Angular Limitation Projection Electron-beam Lithography). Dieses Verfahren nutzt Streumasken mit einer für Elektronen teilweise transparenten Folie. Durch die zwischengeschaltete Maske werden bestimmte Teile des Elektronenstrahls abgeschattet. Die Streuschicht lenkt auftreffende Elektronen stark ab. Ein großer Vorteil des Verfahrens gegenüber der Elektronenabsorption ist die auftretende geringere Aufladung und weniger ausgeprägte Erwärmung der Maske.