Die minimal benötigte Bestrahlungszeit für eine bestimmte Fläche, bei gegebener Bestrahlungsdosis, lässt sich durch den folgenden Zusammenhang berechnen:
Fläche * Dosis = Belichtungsdauer * Strahlstrom
In der minimalen Schreibzeit werden der zeitliche Aufwand für Bewegungen der Substrat-halterung (Ausblendzeiten) bzw. Korrekturen und Anpassungen während des Schreibens nicht mit berücksichtigt. Aufgrund des benötigten hohen zeitlichen Aufwands (zum Schreiben eines Musters mit sub-100nm Auflösung sind für einen Wafer bei einem nicht sehr empfindlichen Resist (PMMA) bereits mehrere Tage notwendig) sind Direktschreibverfahren mit nur einem Strahl nicht für Großserienproduktionen geeignet. Eine erhebliche Verkürzung der Schreibzeiten für einen wirtschaftlicheren Durchsatz werden Anlagen erforscht/entwickelt bei denen mehrere Elektronenstrahlen parallel eingesetzt werden können (Vielstrahlschreiber, Mapper).