Der neue Speziallack SX AR-N 4810/1 ist ein chemisch verstärkter Photoresist, der auf PMMA basiert und wasserfrei – entscheidend im Fall feuchtigkeitsempfindlicher Substrate – mit organischen Lösungsmitteln entwickelt werden kann. SX AR-N 4810/1 wird als Lösung in Anisol angeboten und enthält neben PMMA noch Vernetzer und aminische Komponenten. Als Entwickler eignen sich X AR 300-74/1 oder MIBK.
Mit dem Lacksystem können auch dickere Schichten bis zu etwa 3,5 µm realisiert werden. Für die maximalen Schichtdicken eignet sich unser Entwickler X AR 300-74/3 besonders gut, die Empfindlichkeit liegt im Bereich von etwa 600 – 650 mJ/cm2 (Breitband UV). Die resultierenden Strukturen sind bis etwa 230 °C stabil und im optischen Wellenlängenbereich >300 nm transparent.
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