Wurzeln
Die Wurzeln des Know-hows von Allresist liegen in den Fotochemischen Werken (FCW) Berlin. Hier wurden bis 1992 neben dem Hauptprodukt Röntgenfilm auch lichtempfindliche Lacke für die Mikroelektronik des damaligen RGW produziert. Die damaligen Entwicklungspartner waren die Akademie der Wissenschaften Adlershof und die Humboldt-Universität Berlin.
Mit ihnen gelang dem FCW z.B. die Entwicklung des ersten Zweilagensystems der E-Beam-Lithographie in den 1980er Jahren. Bereits damals befruchtete dies die Kreativität des darin aktiv mitwirkenden Mitarbeiters und heutigen Geschäftsführers Matthias Schirmer.
1992 gingen die Lichter für die Fotolackproduktion aus. Um das auf Weltniveau stehende Resist-Knowhow zu retten und für sich und andere engagierte Kollegen eine neue Zukunft zu schaffen, gründeten Matthias und Brigitte Schirmer am 16. Oktober 1992 die Allresist GmbH.
Werdegang
Die übernommenen Kunden der DDR-Mikroelektronik sicherten in den ersten Jahren einen bedeutenden Teil des erforderlichen Umsatzes. Der andere Teil wurde durch intensive fördermittelunterstützte Projekttätigkeit und die Spezialisierung auf kundenspezifische Sonderprodukte kompensiert. Mit dieser
Innovationskraft wuchs die Produktpalette bis 1999 auf 14 marktfähige Resists.
Für die sich stetig vergrößernde Produktion baute Allresist 1999 ein neues, größeres Gebäude mit modernem Equipment auf eigenem Grund und Boden in Strausberg und erweiterte auch die Forschung.
Mit einem nachhaltigen Geschäftsmodell im Markt gut aufgestellt, konnte Allresist seinen Produktumsatz in den letzten 5 Jahren mehr als verdoppeln und den Produktionstrakt 2013 mit einem Anbau erweitern.
2018 wurden weitere 450 m² angebaut und die Produktion um 150 m² vergrößert. Inzwischen produzieren hier in Strausberg 14 Mitarbeiter eine sehr umfangreiche Palette von mehr als 250 Produkten (Photo- und E-Beamresists mit den dazugehörigen Prozesschemikalien).
Macher mit Vision
Die Gründer Brigitte und Matthias Schirmer sind auch Gesellschafter von Allresist. Beide waren als Naturwissenschaftler in den Fotochemischen Werken tätig, er als Chemiker in der Forschung und sie als Ingenieurin in der Produktion.
Eine bedeutende gemeinsame Produktentwicklung, die beide Schirmers 1991 noch im FCW in nur 3 Monaten vom Labor- in den Produktionsmaßstab überführten, wurde die wirtschaftliche Basis für das neu zu gründende Unternehmen.
Mit ihren damaligen Kollegen und heutigen Mitarbeitern bauten beide Schirmers gemeinsam ihre Firma auf. Innovativ auf die Kunden ausgerichtet und einer humanistischen Unternehmenskultur folgend, bieten die „Allresist“ler nahezu „alle Resists“ an. Regelmäßig weitergebildet und inspirierend geführt, sind sie in die Prozesse und Entscheidungen einbezogen und gestalten sie aktiv mit. Mittlerweile ist auch ihre Tochter Ulrike Schirmer in alle Prozesse einbezogen und geschäftsführende Gesellschafterin.
